在位反应制备TiC涂层的动力学研究
来源期刊:材料工程2007年增刊第1期
论文作者:史景利 王坤杰 郭全贵 刘朗
关键词:化学气相沉积; 碳化钛; 涂层; 动力学;
摘 要:以TiCl4(99.9%)为钛源,H2(99.99%)为载气和反应气体,Ar(99.99%)为保护和稀释气,石墨为基体和碳源,在位反应制备了TiC涂层.通过实验参数与沉积产物的重量变化,分析了该反应的控制因素,并研究了反应的动力学特点.
史景利1,王坤杰1,郭全贵1,刘朗1
(1.中国科学院,山西煤炭化学研究所炭材料重点实验室,太原,030001;
2.中国科学院研究生院,北京,100039)
摘要:以TiCl4(99.9%)为钛源,H2(99.99%)为载气和反应气体,Ar(99.99%)为保护和稀释气,石墨为基体和碳源,在位反应制备了TiC涂层.通过实验参数与沉积产物的重量变化,分析了该反应的控制因素,并研究了反应的动力学特点.
关键词:化学气相沉积; 碳化钛; 涂层; 动力学;
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