Ar+及沉积气压对离子溅射制备铜钨复合膜结构的影响
来源期刊：兵器材料科学与工程2010年第4期
论文作者：曾莹莹 艾永平
文章页码：76 - 78
关键词：铜钨薄膜;离子束溅射;Ar+能量;束流;晶粒度;
摘 要：研究双离子束溅射组装铜钨复合膜Ar+能量及束流对膜影响。用XRD分析溅射沉积后的薄膜结构。实验结果表明,随靶Ar+能量和束流增加,铜钨膜向晶态化转变。铜钨复合膜的沉积速率主要由钨靶Ar+束流决定,并且增加气压会使复合膜晶粒尺寸变小,固溶进钨的铜原子也会相应减少。
曾莹莹，艾永平
井冈山大学工学院新型低碳环保建材研究所
摘 要：研究双离子束溅射组装铜钨复合膜Ar+能量及束流对膜影响。用XRD分析溅射沉积后的薄膜结构。实验结果表明,随靶Ar+能量和束流增加,铜钨膜向晶态化转变。铜钨复合膜的沉积速率主要由钨靶Ar+束流决定,并且增加气压会使复合膜晶粒尺寸变小,固溶进钨的铜原子也会相应减少。
关键词：铜钨薄膜;离子束溅射;Ar+能量;束流;晶粒度;
