恒压模式下电源频率对ZrH_1.8表面微弧氧化陶瓷层的影响

来源期刊：稀有金属材料与工程2015年第1期

论文作者：王志刚 陈伟东 闫淑芳 范秀娟

文章页码：184 - 188

关键词：氢化锆;微弧氧化;频率;阻氢渗透;

摘    要：在磷酸盐体系下,采用恒压模式对氢化锆（Zr H1.8）进行微弧氧化。考察了电源频率对氧化膜的厚度、相结构、截面形貌以及阻氢性能的影响。利用扫描电镜（SEM）、X射线衍射（XRD）、膜层测厚仪分析了氧化膜的表面形貌、截面形貌、相结构及膜层厚度。通过真空脱氢实验评估膜层的阻氢性能。结果表明:随着电源频率的增加,Zr H1.8表面微弧氧化膜层厚度由约50μm仅减小至约45μm;电源频率的增加能有效提高膜层的致密性;电源频率的改变对于膜层的相结构没有明显影响,膜层主要由单斜相氧化锆（M-Zr O2）和四方相氧化锆（T-Zr O1.88）构成,其中单斜相占80%以上;电源频率的增加有助于提高氧化膜的阻氢效果,当电源频率增加到300 Hz时,氧化膜的氢渗透降低因子PRF值高达10.8。