钯-铂双层覆膜聚酰亚胺的CECVD制备与表征
来源期刊：稀有金属材料与工程2008年第5期
论文作者：田熙科 周锦兰 俞开潮 冯文芳 郑建华
关键词：聚酰亚胺; 催化增强化学气相沉积; 铂薄膜; 钯-铂双层膜; 表征;
摘 要：以N2、O2作载气,采用催化增强化学气相沉积(CECVO)法,于250～300℃和减压/常压下制得沉积于聚酰亚胺(PI)上的Pt,Pd/Pt和Pt/Pd金属双层薄膜.当使用Pd(hfac)2和Pt(COD)Me2为前驱体,在同一反应器内共沉积时只有Pt被沉积(钯配合物起催化剂作用),金属铂、钯顺序沉积可形成双层膜.经XPS和SEM分析了所得沉积膜的表面结构与相组成.结果表明:所有沉积层与PI衬底的粘附性能良好;沉积速率为70～80nm/h,钯、铂粒径分别为100nm和100～150nm.
田熙科1，周锦兰2，俞开潮2，冯文芳2，郑建华1
(1.中国地质大学,湖北,武汉,430074;
2.华中科技大学,湖北,武汉,430074)
摘要:以N2、O2作载气,采用催化增强化学气相沉积(CECVO)法,于250～300℃和减压/常压下制得沉积于聚酰亚胺(PI)上的Pt,Pd/Pt和Pt/Pd金属双层薄膜.当使用Pd(hfac)2和Pt(COD)Me2为前驱体,在同一反应器内共沉积时只有Pt被沉积(钯配合物起催化剂作用),金属铂、钯顺序沉积可形成双层膜.经XPS和SEM分析了所得沉积膜的表面结构与相组成.结果表明:所有沉积层与PI衬底的粘附性能良好;沉积速率为70～80nm/h,钯、铂粒径分别为100nm和100～150nm.
关键词:聚酰亚胺; 催化增强化学气相沉积; 铂薄膜; 钯-铂双层膜; 表征;
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