磁控溅射Al/Pb纳米多层膜调制结构研究
来源期刊：昆明理工大学学报(自然科学版)2010年第1期
论文作者：郭中正 孙勇 段林昆 李玉阁 郭诗玫
文章页码：38 - 119
关键词：纳米多层膜;调制结构;表面粗糙度;磁控溅射;
摘 要：用磁控交替沉积制备Al/Pb纳米多层膜,运用XPS,AFM,TEM考察表面状况及膜结构.结果表明,实验条件下,当Al层厚60 nm时,Pb子层标定厚度从20 nm增至30 nm,可形成较完整埋层调制结构.随Pb层厚度增加,连续性变好、表面糙度降低,Al层对Pb层表面糙度克服能力提高,改善层状结构完整性.多层膜中Al,Pb子层均存在(111)择优取向特征,由fcc结构的表面自由能最小化引起.
郭中正1，孙勇1，段林昆1，李玉阁1，郭诗玫2
1. 昆明理工大学云南省新材料制备与加工重点实验室2. 曲靖师范高等专科学校
摘 要：用磁控交替沉积制备Al/Pb纳米多层膜,运用XPS,AFM,TEM考察表面状况及膜结构.结果表明,实验条件下,当Al层厚60 nm时,Pb子层标定厚度从20 nm增至30 nm,可形成较完整埋层调制结构.随Pb层厚度增加,连续性变好、表面糙度降低,Al层对Pb层表面糙度克服能力提高,改善层状结构完整性.多层膜中Al,Pb子层均存在(111)择优取向特征,由fcc结构的表面自由能最小化引起.
关键词：纳米多层膜;调制结构;表面粗糙度;磁控溅射;
