沉积温度对磁控溅射Ti/TiN多层膜光学和电学性能的影响

来源期刊：机械工程材料2010年第8期

论文作者：胡敏 刘莹

文章页码：30 - 81

关键词：磁控溅射;Ti/TiN多层膜;溅射电流;沉积温度;

摘    要：采用直流反应磁控溅射法于不同温度下在Si(111)基底上制备了Ti/TiN多层膜,采用X射线衍射仪和原子力显微镜对膜的物相和表面形貌进行了分析,研究了沉积温度对膜结构及其光学、电学性能的影响。结果表明:不同沉积温度下制备的Ti/TiN多层膜均由钛和TiN相组成,多层膜与单层TiN膜一样,其表面粗糙度随沉积温度的升高而减小,电阻率随沉积温度的升高显著降低;其表面形貌则比单层膜更加致密和均匀;多层膜红外反射率与其电阻率有关,当电阻率减小时,红外反射率增大。