反应溅射 NiCrOx薄膜过程及其光学性质的研究
来源期刊：无机材料学报2000年第2期
论文作者：胡行方 曹韫真
关键词：磁控反应溅射; NiCrOx薄膜; 光学常数; 光谱选择性吸收表面; magnetron reactive sputtering; NiCrOx thin films; optical constants; solar selective surface;
摘 要：研究了反应气体流量对磁控反应溅射NiCrOx薄膜成分和光学常数的影响. 在反应溅射过程中，NiCr靶随着O2流量的增大出现毒化现象. 在不同氧流量条件下可沉积出近于透明的介电薄膜和不透明的吸收薄膜. 对薄膜光学常数的研究可应用到太阳能光谱选择性吸收薄膜的制备.
胡行方1，曹韫真1
(1.中国科学院上海硅酸盐研究所，上海 200050)
摘要:研究了反应气体流量对磁控反应溅射NiCrOx薄膜成分和光学常数的影响. 在反应溅射过程中，NiCr靶随着O2流量的增大出现毒化现象. 在不同氧流量条件下可沉积出近于透明的介电薄膜和不透明的吸收薄膜. 对薄膜光学常数的研究可应用到太阳能光谱选择性吸收薄膜的制备.
关键词:磁控反应溅射; NiCrOx薄膜; 光学常数; 光谱选择性吸收表面; magnetron reactive sputtering; NiCrOx thin films; optical constants; solar selective surface;
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