金刚石表面终端和电解液pH值对铌基硼掺杂金刚石电极电化学性能的影响

来源期刊：粉末冶金材料科学与工程2012年第6期

论文作者：孟令聪 余志明 郝诗梦 王菁清 魏秋平 焦娜

文章页码：779 - 785

关键词：硼掺杂金刚石电极;金属Nb;电化学性能;化学气相沉积;

摘    要：以H2和CH4为反应气体,B2H6为硼掺杂源,采用热丝化学气相沉积法（HFCVD）在金属Nb上制备不同硼原子浓度的硼掺杂金刚石薄膜（BDD）电极。采用场发射扫描电镜（FESEM）、拉曼光谱仪（Raman spectrometer）和电化学工作站对金刚石薄膜的形貌、质量和电化学性能进行分析,研究金刚石表面端基和电解液pH值对BDD电极电化学性能的影响。结果表明,硼烷:甲烷=1%²%（体积分数）的氢终端BDD电极,在酸性电解液（1mol/L H2SO4）中具有最宽的电势窗口（3.8V）,在酸性溶液中具有极低的背景电流（¹0-5A）。