离子钨钼共渗的表观过程
来源期刊：材料科学与工艺2000年第1期
论文作者：郑维能 赵晋香 李成明 王建明 徐重 田林海
关键词：离子轰击; 渗层厚度; 表面成分; 等离子体密度;
摘 要：研究了双层辉光离子钨钼共渗在离子轰击条件下形成渗层和无离子轰击时形成沉积层的表观过程．结果表明,在形成沉积层时,由于离子轰击作用已不存在,使渗层厚度减少26%, 用朗缪尔探针对双层辉光离子钨钼共渗过程进行了等离子体的诊断, 等离子体对表面成分有较大影响．合理的等离子体密度范围为5×1011～3×1012cm-3．
郑维能1，赵晋香2，李成明3，王建明2，徐重2，田林海2
(1.首都师范大学化学系，北京 100037;
2.太原理工大学表面工程研究所，山西太原 030024;
3.中科院力学所材料工程中心，北京 100080)
摘要:研究了双层辉光离子钨钼共渗在离子轰击条件下形成渗层和无离子轰击时形成沉积层的表观过程．结果表明,在形成沉积层时,由于离子轰击作用已不存在,使渗层厚度减少26%, 用朗缪尔探针对双层辉光离子钨钼共渗过程进行了等离子体的诊断, 等离子体对表面成分有较大影响．合理的等离子体密度范围为5×1011～3×1012cm-3．
关键词:离子轰击; 渗层厚度; 表面成分; 等离子体密度;
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