Au/Gd多层膜的制备和表征
来源期刊：材料导报2005年增刊第1期
论文作者：张继成 吴卫东 王占山 许华
关键词：磁控溅射 Au/Gd(金/钆)多层膜 X-Ray衍射仪小角衍射 原子力显微镜(AFM);
摘 要：介绍了用磁控溅射法制备Au/Gd(金/钆)多层膜的初步实验结果.在摸索出的工艺条件下,采用计算机定时控制膜厚的方法,按照设计的周期结构(设计周期厚度10nm,Au/Gd=5nm/5nm,总周期数为25)制备了界面清晰、表面光滑的多层膜样品.X-Ray衍射仪小角衍射测试的周期厚度为9.95nm,和设计值十分吻合,原子力显微镜(AFM)的检测表明,薄膜的表面粗糙度小于1.7nm.
张继成1，吴卫东1，王占山2，许华1
(1.中国工程物理研究院激光聚变研究中心,绵阳,621900;
2.同济大学物理系,上海,200092)
摘要:介绍了用磁控溅射法制备Au/Gd(金/钆)多层膜的初步实验结果.在摸索出的工艺条件下,采用计算机定时控制膜厚的方法,按照设计的周期结构(设计周期厚度10nm,Au/Gd=5nm/5nm,总周期数为25)制备了界面清晰、表面光滑的多层膜样品.X-Ray衍射仪小角衍射测试的周期厚度为9.95nm,和设计值十分吻合,原子力显微镜(AFM)的检测表明,薄膜的表面粗糙度小于1.7nm.
关键词:磁控溅射 Au/Gd(金/钆)多层膜 X-Ray衍射仪小角衍射 原子力显微镜(AFM);
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