溅射工艺对LaNiO3薄膜结构的影响
来源期刊：功能材料与器件学报2008年第1期
论文作者：刘兴刚 杨春生 石金川 张丛春
关键词：磁控溅射; 镍酸镧薄膜; 择优取向; 沉积温度;
摘 要：采用射频磁控溅射法在Si(100)衬底上制备了LaNiO3薄膜.通过原位加热或后续热处理使薄膜晶化.借助X-ray衍射分析、电感耦合等离子体发射光谱、原子力显微镜等手段研究了溅射工艺对薄膜显微结构的影响.实验结果表明,溅射时是否加热对薄膜的结晶取向影响很大,而氧分压则影响La/Ni比.衬底不加热时,通过后续热处理得到多晶的随机取向薄膜,而当溅射时原位加热300℃,则得到有明显(100)择优取向的薄膜.
刘兴刚1，杨春生1，石金川1，张丛春1
(1.上海交通大学微纳米科学技术研究院,上海,200030)
摘要:采用射频磁控溅射法在Si(100)衬底上制备了LaNiO3薄膜.通过原位加热或后续热处理使薄膜晶化.借助X-ray衍射分析、电感耦合等离子体发射光谱、原子力显微镜等手段研究了溅射工艺对薄膜显微结构的影响.实验结果表明,溅射时是否加热对薄膜的结晶取向影响很大,而氧分压则影响La/Ni比.衬底不加热时,通过后续热处理得到多晶的随机取向薄膜,而当溅射时原位加热300℃,则得到有明显(100)择优取向的薄膜.
关键词:磁控溅射; 镍酸镧薄膜; 择优取向; 沉积温度;
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