多弧离子镀用于制备高质量的Ti-N膜
来源期刊：材料保护2000年第8期
论文作者：徐新乐
关键词：膜层; 多弧离子镀; Ti-N膜; 硬度;
摘 要：研究了多弧离子镀制备Ti-N膜的重要工艺参数(磁场、弧电流、偏压和氮气流量)对膜层质量的影响，详细分析了它们影响膜层特性的原因。实验证明，提高弧电流的同时抑制液滴的产生，是提高膜层质量和生产效率的有效途径。
徐新乐1
(1.中国兵器工业新技术推广研究所 北京 100089)
摘要:研究了多弧离子镀制备Ti-N膜的重要工艺参数(磁场、弧电流、偏压和氮气流量)对膜层质量的影响，详细分析了它们影响膜层特性的原因。实验证明，提高弧电流的同时抑制液滴的产生，是提高膜层质量和生产效率的有效途径。
关键词:膜层; 多弧离子镀; Ti-N膜; 硬度;
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