溅射功率对CdZnTe薄膜成分和结构的影响

来源期刊：功能材料2011年第9期

论文作者：曾冬梅 周海 卢一民 杨英歌

文章页码：1663 - 1665

关键词：磁控溅射;溅射功率;CdZnTe薄膜;

摘    要：采用Cd0.9Zn0.1Te晶体作为溅射靶在玻璃衬底上利用磁控溅射法制备出CdZnTe薄膜,研究了溅射功率对CdZnTe薄膜的成分、结构特性的影响。制备的CdZnTe薄膜是具有闪锌矿结构的多晶薄膜,沿(111)择优取向。随着溅射功率的增大,薄膜沉积速率增大,薄膜结晶质量提高。采用晶体靶Cd0.9Zn0.1Te溅射CdZnTe薄膜时,无论是在何种功率下CdZnTe薄膜中的Cd原子成分均高于Te原子成分,Cd原子表现为择优溅射原子。