基片倾斜角度对TbFe薄膜磁致伸缩性能的影响
来源期刊：功能材料2005年第1期
论文作者：蒋洪川 张文旭 彭斌 张万里 杨仕清 张金平
关键词：直流磁控溅射; TbFe磁致伸缩薄膜; 柱状微结构; 形状各向异性;
摘 要：采用直流磁控溅射法制备了非晶态TbFe磁致伸缩薄膜,通过基片的倾斜安装研究了基片倾斜角度对TbFe薄膜磁致伸缩性能的影响.结果表明:随着基片倾斜角度的增大TbFe薄膜的磁致伸缩系数增大,在外加磁场110kA·m-1下基片倾斜角度为60°时薄膜磁致伸缩系数达到最大值1.02×10-4,并且随着基片倾斜角度的增大TbFe薄膜的易磁化方向由垂直膜面方向逐渐转向平行膜面方向.这是由于倾斜基片溅射形成的倾斜的薄膜柱状微结构产生的形状各向异性引起的.
蒋洪川1，张文旭1，彭斌1，张万里1，杨仕清1，张金平1
(1.电子科技大学,微电子与固体电子学院,四川,成都,610054)
摘要:采用直流磁控溅射法制备了非晶态TbFe磁致伸缩薄膜,通过基片的倾斜安装研究了基片倾斜角度对TbFe薄膜磁致伸缩性能的影响.结果表明:随着基片倾斜角度的增大TbFe薄膜的磁致伸缩系数增大,在外加磁场110kA·m-1下基片倾斜角度为60°时薄膜磁致伸缩系数达到最大值1.02×10-4,并且随着基片倾斜角度的增大TbFe薄膜的易磁化方向由垂直膜面方向逐渐转向平行膜面方向.这是由于倾斜基片溅射形成的倾斜的薄膜柱状微结构产生的形状各向异性引起的.
关键词:直流磁控溅射; TbFe磁致伸缩薄膜; 柱状微结构; 形状各向异性;
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