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PDMS表面修饰方法的研究进展

来源期刊:材料导报2009年第15期

论文作者:赵建龙 杨军 张瑞强 许蓉 金庆辉 郑小林

关键词:PDMS; 表面修饰; 微流控芯片;

摘    要:聚二甲基硅氧烷(Polydimethylsiloxane,PDMS)由于具有良好的光学和化学性能,以及加工简单、价格便宜等优点,已广泛应用于微流控芯片研究领域.但PDMS的高疏水性以及它对如DNA、蛋白质等生物大分子具有较强的表面吸附特性,限制了它的应用范围.目前,基本上都是通过修饰的方法来改善PDMS表面亲水性能.按照PDMS经处理后恢复疏水性的时间长短,将PDMS表面修饰的方法分为暂时性修饰方法和永久性修饰方法;也可以按照对PDMS处理的原理分为物理修饰方法、化学修饰方法以及将两者相结合使用的方法.总之,各种方法都有很广泛的应用,实际处理时,仍要考虑到实验条件等因素的限制.概述了目前常用的几种针对PDMS表面修饰的方法,包括它们的基本原理、修饰效果以及相关应用研究.

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PDMS表面修饰方法的研究进展

赵建龙1,杨军2,张瑞强2,许蓉2,金庆辉1,郑小林2

(1.中国科学院上海微系统与信息技术研究所,上海,200050;
2.重庆大学生物工程学院,重庆,400030)

摘要:聚二甲基硅氧烷(Polydimethylsiloxane,PDMS)由于具有良好的光学和化学性能,以及加工简单、价格便宜等优点,已广泛应用于微流控芯片研究领域.但PDMS的高疏水性以及它对如DNA、蛋白质等生物大分子具有较强的表面吸附特性,限制了它的应用范围.目前,基本上都是通过修饰的方法来改善PDMS表面亲水性能.按照PDMS经处理后恢复疏水性的时间长短,将PDMS表面修饰的方法分为暂时性修饰方法和永久性修饰方法;也可以按照对PDMS处理的原理分为物理修饰方法、化学修饰方法以及将两者相结合使用的方法.总之,各种方法都有很广泛的应用,实际处理时,仍要考虑到实验条件等因素的限制.概述了目前常用的几种针对PDMS表面修饰的方法,包括它们的基本原理、修饰效果以及相关应用研究.

关键词:PDMS; 表面修饰; 微流控芯片;

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