磁控溅射制备银掺杂ZnO薄膜结构及光电性质研究
来源期刊:材料导报2010年第24期
论文作者:段理 樊小勇 于晓晨 倪磊
文章页码:13 - 16
关键词:溅射;银掺杂;p型ZnO薄膜;光电性能;
摘 要:利用磁控溅射法在玻璃衬底上制备了银掺杂ZnO薄膜,通过改变制备条件生长了一系列样品,样品退火后呈现p型导电特性。测量了样品的结构特性、光学性质和电学性质,实验表明薄膜厚度与淀积时间、溅射功率分别呈近似线性关系;薄膜晶体质量随溅射功率、背景气压的增加而降低;退火过程是银元素形成受主的重要环节,且退火能有效提高薄膜晶体质量,改善薄膜的光学性质和电学性质。分析了这些影响的机理和来源。
段理1,2,樊小勇1,2,于晓晨1,2,倪磊1,2
1. 长安大学材料科学与工程学院2. 长安大学高性能路面国际合作研究中心
摘 要:利用磁控溅射法在玻璃衬底上制备了银掺杂ZnO薄膜,通过改变制备条件生长了一系列样品,样品退火后呈现p型导电特性。测量了样品的结构特性、光学性质和电学性质,实验表明薄膜厚度与淀积时间、溅射功率分别呈近似线性关系;薄膜晶体质量随溅射功率、背景气压的增加而降低;退火过程是银元素形成受主的重要环节,且退火能有效提高薄膜晶体质量,改善薄膜的光学性质和电学性质。分析了这些影响的机理和来源。
关键词:溅射;银掺杂;p型ZnO薄膜;光电性能;