共搜索到5902条信息，每页显示10条信息，共591页。用时：0小时0分0秒398毫秒

• ITO靶材在磁控溅射过程中的结瘤诱因分析

  来源： 《材料开发与应用2020年第1期》——崔晓芳 吴晓飞 郗雨林

  ITO靶材在磁控溅射过程中的结瘤诱因分析崔晓芳,吴晓飞,郗雨林中国船舶重工集团公司第七二五研究所摘 要:研究了ITO靶材在磁控溅射过程中的结瘤问题,借助SEM对可能促使结瘤产生的因素进行了分析.结果表明,裂纹,孔隙等缺陷是结瘤产生的主要原因.关键词:ITO靶材;结瘤诱因;磁控溅射;......

• 超声波-化学共沉淀法制备纳米ITO粉

  来源： 《有色金属2008年第1期》——戴永年 姜宏伟 宋宁 邓又铵 钟晓林

  超声波-化学共沉淀法制备纳米ITO粉 戴永年1,姜宏伟1,宋宁1,邓又铵1,钟晓林1 (1.昆明理工大学,材料与冶金工程学院,昆明,650093) 摘要:以In,Sn硫酸盐为原料,采用超声波与化学共沉淀相结合的方法制备纳米ITO粉末,用TEM,sEM.XRD,BET等现代分析测试手段对制备的粉末进行表征.在反应温度为60-75℃,In3+浓度＜160g/L,氨水浓度＜400g/L,终点pH为6.8~8的条件下.得到的纳米ITO粉末颗粒呈球状,团聚少,分散性好,In2O3:snO2(质量)=9:1.平均粒径＜50nm,比表面积＞15m2/g. 关键词:材料合成与加工工艺; 纳米ITO粉体; 化学共沉淀法; 超声波; [全文内容正在添加中] ......

• 两种不同分散剂对ITO纳米粉末粒度和团聚的影响

  来源： 《稀有金属与硬质合金2005年第1期》——毛黎明 李历历 段学臣

  两种不同分散剂对ITO纳米粉末粒度和团聚的影响毛黎明,李历历,段学臣摘 要:利用溶胶凝胶法制取纳米铟锡氧化物(ITO)粉末,研究了两种不同的分散剂对粉末粒度,团聚的影响,并用差热分析(DTA),X-射线衍射(XRD),扫描电镜(SEM)分析了所制得粉末的形貌.结果表明:两种分散剂均有减少纳米粉末团聚程度的效果,二号分散剂效果优于一号分散剂,而添加一号分散剂所制备的ITO纳米粉末的晶粒度比添加二号分散剂的细小;二者都对纳米粉末的形貌影响不大.关键词:溶胶凝胶法;纳米ITO粉末;分散剂;团聚;......

• ZnO半导体薄膜的研究进展

  来源： 《材料导报2008年增刊第3期》——雷通 吕承瑞 王丽军 王小平

  ZnO半导体薄膜的研究进展 雷通1,吕承瑞1,王丽军1,王小平1 (1.上海理工大学理学院,上海,200093) 摘要:介绍了制备氧化锌薄膜的几种主要方法,包括磁控溅射法,化学气相沉积法,溶胶-凝胶法,激光脉冲沉积法等;分析了氧化锌薄膜作为代替透明导电膜(ITO膜)的可行性及这方面的研究进展;阐述了氧化锌薄膜作为一种新的场发射阴极材料应用于平板显示或作为场发射电子源的研究进展,同时综述了其作为发光器件的众多优势. 关键词:ZnO半导体薄膜; ITO膜; 场发射阴极材料; LED; [全文内容正在添加中] ......

• ITO靶材的直流磁控溅射镀膜工艺研究

  来源： 《材料开发与应用2019年第6期》——崔晓芳 吴晓飞 郗雨林

  ITO靶材的直流磁控溅射镀膜工艺研究崔晓芳,吴晓飞,郗雨林中国船舶重工集团公司第七二五研究所摘 要:对ITO靶材的直流磁控溅射工艺进行研究,通过正交试验方法确定制备ITO薄膜的最优工艺参数,并明确了溅射温度,氧氩比,溅射气压和溅射功率密度对ITO薄膜电阻率和可见光透过率的影响规律.最优工艺参数为溅射温度370℃,氧氩比0.5/40,溅射气压0.4 Pa,溅射功率密度0.17 W/cm~2.薄膜电阻率受各因素影响的主次顺序是:氧氩比>溅射温度>溅射气压>溅射功率密度.薄膜可见光透过率受各因素影响的主次顺序为:溅射温度>溅射气压>氧氩比>溅射功率密度.关键词:ITO靶材;ITO薄膜;直流磁控溅射;......

• Film Layer Structure and Wear Resistance on High Strength Room Temperature Blackening of Cu-Se-P System

  来源： 《材料保护2004年增刊第2期》——ZHANG Yu-feng WANG Jian-cheng ZHOU Hou-qiang

  Film Layer Structure and Wear Resistance on High Strength Room Temperature Blackening of Cu-Se-P System ZHANG Yu-feng1,WANG Jian-cheng1,ZHOU Hou-qiang1 (1.Wuhan Ordnance Noncommissioned Officer School, Wuhan 430075 ,China) 摘要:In this paper,the high strength room temperature blackening film on steel surface were prepared, the structure and the forming principle of the film were studied. The Cu......

• 微波辅助-水相共沉淀法纳米ITO粉体的制备及其表征

  来源： 《功能材料2010年第10期》——朱协彬 姜涛 邱冠周 黄伯云

  微波辅助-水相共沉淀法纳米ITO粉体的制备及其表征朱协彬1,2,姜涛2,邱冠周2,黄伯云21. 安徽工程大学安徽高性能有色金属材料重点实验室2. 中南大学资源加工与生物工程学院摘 要:利用微波辅助-水相共沉淀法,在InCl3和SnCl4混和溶液中添加PEG-6000,并滴加体积比1∶4浓度的氨水,并在不同反应温度(35~75℃)下制备了ITO前驱体,在温度800℃煅烧1h后得到纳米ITO粉体.利用SEM对纳米ITO粉体的形貌进行表征,用XRD对其结构,晶粒度和堆垛层数进行了表征,同时用纳米粒度Zeta电位分析仪对相应颗粒度进行了测试.讨论了微波辅助下不同反应体系温度对制备的纳米ITO粉体的形貌和尺寸的影响,并探讨了其机理,研究结果表明,随着反应体系温度的上升,纳米ITO粉体形貌由球形转为棒形,其晶体结......

• RESEARCH　OF　FILM　THICKNESS　DURING　DRAWING　PROCESS　LUBRICATED　WITH　O／W　EMULSIONS^＋

  来源： 《中南大学学报(英文版)1995年第1期》——Yan Hengzhi Zhong Jue Wang Dianzuo

  RESEARCH　OF　FILM　THICKNESS　DURING　DRAWING　PROCESS　LUBRICATED　WITH　O／W　EMULSIONS＋Yan Hengzhi1; Zhong Jue1; Wang Dianzuo2(1. Department of Mechanical Engineering. Central South University of Technology... process. we have established the mathematical model of film thickness lubricated with emulsions during drawing process, The film thickness calculated with the model under general condition is very close......

• Preparation of ITO nano-powders by hydrothermal-calcining process^①

  来源： 《中南大学学报(英文版)2006年第4期》——古映莹 秦利平 刘雪颖

   ......

• 溶胶凝胶模板法合成ITO纳米管及其氢敏性能

  来源： 《稀有金属材料与工程2009年增刊第2期》——孙银弟 孙超 叶枫 张海礁 周玉 孟庆昌 徐慧芳

  溶胶凝胶模板法合成ITO纳米管及其氢敏性能 孙银弟1,孙超1,叶枫1,张海礁1,周玉1,孟庆昌1,徐慧芳1 (1.哈尔滨工业大学,黑龙江,哈尔滨,150001) 摘要:采用简单的溶胶凝胶阳极氧化铝模板法制备了ITO纳米管.通过FE-SEM,HRTEM,XRD对其微观形貌,结构,相组成等进行了表征和分析,并测试了其对H_2的气敏特性.结果表明,所得纳米管是由10~20 nm晶粒组成的多晶结构,壁厚约为25 nm,平均直径约250 nm,与AAO (Anodic Aluminum Oxide)模板的直径相同.产物在550 ℃热处理后为立方铁锰矿结构的In_2O_3,Sn~(4+)已经掺杂到In_2O_3的晶格中.所得ITO纳米管常温下对氢气具有较好的敏感性及稳定性. 关键词:ITO纳米管; 溶胶-凝胶; 模板法; 氢敏性能; ITO nanotubes; sol-gel; AAO......