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熔融制样-X射线荧光光谱法测定钛铁矿中主次组分朱忠平1,李国会21. 中南大学资源加工与生物工程学院2. 中国地质科学院地球物理地球化学勘查研究所摘 要:使用Li2B4O7和LiBO2混合熔剂(质量比为67∶33),NH4NO3作氧化剂,饱和LiBr溶液作脱模剂,在电加热熔样机上制备玻璃熔片,建立了波长色散X射线荧光光谱法(WD-XRF)测定钛铁矿物中TiO2,TFe,SiO2,A12O3,V2O5,MgO,CaO,S,P,Na2O的分析方法.实验表明,在熔样比例(质量比)为15∶1,熔样温度为1 100℃......
熔融制样-X射线荧光光谱法测定铝矿中15种组分钟坚海龙岩出入境检验检疫局摘 要:铝矿中主,次及微量成分含量对生产工艺及产品质量具有重要影响,传统的检测方法操作过程繁琐,分析周期长,已难以满足检测需求.实验采用熔融法制样,样品经硝酸锂预氧化后,选择质量比为12∶22的Li2B4O7和LiBO2混合试剂作为熔剂,熔剂与样品比例为10∶1,以NH4I为脱模剂,在1 050℃下熔融10min制备熔片.采用有证标准物质及其与高纯Al2O3的人工合成样品为校准样品,对谱线重叠情况进行了考察,并通过变化的理论α系数法校正......
碱性钒铬溶液除杂工艺研究蒋霖攀钢集团研究院有限公司,钒钛资源综合利用国家重点实验室摘 要:以钒铬渣钠化焙烧工艺得到的碱性钒铬浸出液为原料,分析了主要元素V,Cr及杂质Si,P的含量,探讨了铝盐对碱性条件下Si和P的去除机制,研究了·18H2O用量,pH值,反应温度,反应时间及陈化时间等因素对Si,P去除效果的影响.结果表明:在弱碱性条件下,铝盐沉淀法可有效去除钒铬溶液中的Si和P,除Si率达98%,除P率达92%,满足后续沉钒要求.最佳除杂工艺条件为:Al∶Si(mol)=1.2,pH值9.0,温度90℃,反应时间15 min,陈化时间1 h.除杂过程中V和Cr的损失均小于5%,且进入除杂渣中的V和Cr容易洗涤回收,净化后液经沉钒,煅烧,沉钒率大于98%,最终得到的粉状V2O5产品质量满足标准
高温下的磨损率相比TiN单层膜减小了约3×10-14m3/(N.m).从晶体化学和热测量方法角度讨论了TiN/VCN多层膜的Magnéli相V2O5的润滑机制.关键词:TiN/VCN;磁控溅射;力学性能;摩擦磨损性能;Magnéli相;......
聚吡咯/钒氧纳米管复合阴极材料的制备及其电化学行为研究崔朝军1,赵爱玲1,吴广明21. 安阳工学院数理学院2. 上海市特殊人工微结构材料与技术重点实验室摘 要:以V2O5粉末和过氧化氢为原料,十六烷基胺为模板剂,利用水热合成法制备钒氧纳米管,然后结合阳离子交换技术,用导电聚合物聚吡咯修饰替换钒氧纳米管中的有机模板剂,成功制备了聚吡咯/钒氧纳米管复合材料.借助透射电子显微镜和傅里叶红外光谱观察和分析了修饰前后纳米管的形貌和结构变化,实验结果证实聚吡咯不但成功修饰替换了钒氧纳米管中的有机模板剂,而且还很好地保持了纳米管的管状结构.采用恒流充放电和循环伏安分别测试了修饰前后样品的电化学性能,测试结果表明导电聚合物聚吡咯的修饰替换极大地提高了电极材料的首次充放电比容量和循环稳定性,循环伏安结果和20次循环后的......
四元SCR催化剂V2O5-WO3-MoO3/TiO2脱硝性能高岩,栾涛,彭吉伟,吕涛山东大学能源与动力工程学院摘 要:以锐钛型TiO2为载体,V2O5为主要活性成分,同时负载WO3和MoO3作为活性助剂,制备了四元催化剂V2O5-WO3-MoO3/TiO2,并对该催化剂的脱硝活性,催化选择性及微观表征进行了研究.结果表明,该四元催化剂脱硝性能优于相同负载量下单一负载W或Mo的三元催化剂,W可以提高催化剂高温(>400℃)活性,同时抑制Mo在高温区间导致的副反应发生,Mo可以提高低温(<300℃)活性,弥补W在低温区间的活性不足.该四元催化剂最大活性99%,温度窗口(脱硝活性>80%)为280~420℃,在180~380℃范围内SO2氧化率为零,在0~1000℃范围内存在3个失重峰......
表明,采用浸渍法混合石煤与添加剂时,流化床焙烧的最佳实验条件为:焙烧时间45 min,添加剂用量6%,Ca O用量6%,此时的V2O5浸出率达到85.2%.关键词:石煤;流化床;焙烧;钒浸出;......
五种二元过渡金属氧化物界面上的相互作用,非晶相结构及催化性能(Ⅰ)界面非晶相分散作用及体相晶相剩余率的提出 韩维屏1,李丽2,王智民2,韩基新2 (1.哈尔滨师范大学,表面化学研究所,哈尔滨,150080;2.黑龙江大学化学化工学院,哈尔滨,150080) 摘要:通过固相热反应,以十种不同的配比和不同的焙烧制度,在MoO3中分别掺杂Fe2O3,V2O5,TiO2(锐钛矿型),WO3和ZrO2,制得五种二元氧化物的系列试样.应用XRD,BET,FT-IR,DSC,半导体气敏特性和催化反应探针等表征技术,较系统地研究了这些组分氧化物形成二元氧化物时界面的非晶相分散结构及催化性能,并提出了相应......
五种二元过渡金属氧化物界面上的相互作用,非晶相结构及催化性能(Ⅱ)DSC,半导体气敏特性,催化活性与亚单层分散模型 韩维屏1,李永战2,李丽2,王智民2,韩基新2 (1.哈尔滨师范大学表面化学研究所,哈尔滨,150080;2.黑龙江大学化学化工学院,哈尔滨,150080) 摘要:应用DSC,半导体气敏特性,催化活性及亚单(分子)层分散模型共四项表征技术,进一步研究了五种二元氧化物的界面结构及其特性.DSC曲线的放热峰及吸热峰分别与界面化学反应,晶格畸变和瓦解,熔化,烧结以及固溶体的形成相关.导电性能的测试证明这些二元氧化物属于N-型半导体,对邻二甲苯具有气敏特性,其灵敏度在化学吸附的初期阶段与邻二甲苯蒸气浓度呈线性关系.催化选择性及转化率的测定证明V2O52MoOs及WO3-MoOs体系对邻二甲苯选择性氧化为苯酐具有催化活性,其非晶相MoOs及V2O5的活性较为显著,尤其当二元氧化......
TiO2,Al2O3,TiAl2O5等相,P元素均以PO43-形式存在;氧化膜界面处存在V2O5相,而表面并不存在V元素. 关键词:Ti-6Al-4V合金; 微弧氧化; 氧化膜; 微观结构; 组成; [全文内容正在添加中] ......