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化学键合型酞菁改性纳米TiO2及可见光催化活性 林旭添1,赵彬1,陈海锋1,钱国栋1,王智宇1,樊先平1 (1.浙江大学材料科学与工程系,硅材料国家重点实验室,浙江,杭州,310027) 摘要:以3,4-二羧酸吡啶,CuPcTS和TiO2为原料,在90℃油浴条件下制备出了通过PD链接半导体纳米TiO2与敏化剂磺酸酞菁铜的化学键合型酞菁改性纳米TiO2;其紫外可见光谱和红外区漫反射谱分析分别表明,该化学键合型酞菁改性纳米TiO2在可见光内具有较强吸收和其分子结构.通过对甲基橙溶液的光降解实验证实其催化活性,辅助的光生电流实验和酞菁敏化ZrO2降解甲基橙实验确认其光催化活性来自于酞菁. 关键词:酞菁; TiO2; 光催化; [全文内容正在添加中] ......
真空蒸镀酞菁铜薄膜表面形貌的研究李文佳,任舰,苏丽娜淮阴师范学院计算机科学与技术学院摘 要:本实验采用真空镀膜技术,在不同的蒸发电流,基板温度和退火温度下制备酞菁铜薄膜.通过激光扫描显微镜(LSM)测试薄膜的表面形貌和粗糙度,讨论不同处理工艺对薄膜表面形貌的影响.每组实验粗糙度变化趋势总是先减后增.结果表明,基板不加热,蒸发电流采用100A且制备后进行90℃退火处理制备出的酞菁铜薄膜粗糙度最小,表面最光滑.此外,经过高温处理(基板加热或制备后退火)的酞菁铜薄膜会出现"裂痕".关键词:酞菁铜;蒸发电流;基板温度;退火温度;表面形貌;......
方酸菁染料近红外吸收性能研究张东玖,楚增勇,邢欣,程海峰国防科学技术大学航天与材料工程学院摘 要:方酸可与含供电子基团的物质,如芳胺,酚,含氮杂环化合物等发生缩合反应,生成一系列吸收波长在近红外区的新型方酸菁染料.该类染料具有独特的光学性能,良好的光,热稳定性和近红外吸收性能.影响方酸菁染料近红外吸收性能的主要因素包括方酸菁染料的基本结构(对称型与非对称型),取代基的种类(端基包括胺,富电芳环,活泼双键以及活泼甲基)及染料在不同溶剂中的聚集行为.关键词:方酸菁染料;近红外吸收;基本构型;吸收波长;光学性能;......
溶液法制备酞菁氧钛有机微米线桂海洋,王军,魏斌上海大学材料科学与工程学院摘 要:采用溶液法制备一维超长酞菁氧钛(TiOPc)微米线.选取4种不同溶剂制得微米线,其光学显微结果表明乙醇是最适合生长TiOPc微米线的溶剂.改变TiOPc/乙醇溶液浓度,研究溶液浓度对微米线长度的影响.通过原子力显微镜(AFM)和扫描电子显微镜(SEM)对TiOPc微米线进行测试分析,结果表明,TiOPc微米线的宽长比最小可以达到10-2.在此基础上制得了有机薄膜晶体管,其表现出明显的P沟道特性.关键词:酞菁氧钛;微米线;溶液法;有机晶体管;......
TiO2薄膜上电沉积四氨基酞菁钴及其表征 秦艳涛1,吴敏1,杨朝晖2,张俊颉1,孙岳明1 (1.东南大学化学化工学院,江苏,南京,210096;2.新安江职业技术学院,浙江,杭州,311600) 摘要:为了寻找酞菁在TiO2上成膜新方式,我们用阳极氧化法在TiO2薄膜上成功制备了四氨基酞菁钴薄膜,对酞菁薄膜进行了SEM,XRD,UV-vis表征,并在成膜前后对四氨基酞菁钴分别进行了电化学性能表征. 关键词:四氨基酞菁钴; 电沉积; 循环伏安; [全文内容正在添加中] ......
高分子田菁胶化学结构式修饰方法综述陈虹宇1,2,唐洪波3,王锦霞4,谢宏伟1,21. 东北大学冶金学院2. 东北大学辽宁省冶金传感器及技术重点实验室3. 沈阳工业大学理学院4. 东北大学理学院摘 要:田菁胶是从田菁种子胚乳中提取的一种天然多糖类高分子有机物.天然的化学结构反映出的理化性质限制了其应用和推广.化学结构式的修饰改进是扩大其应用的有效手段.修饰改进后的田菁胶无毒,无污染,在石油开采,煤开采,纺织,印刷,造纸和食品等领域得到了广泛应用.文中对羧甲基法,羟乙基法,羟丙基法,交联法,羟烷基-羧甲基法,羧甲基-羟烷基法,阳离子法,酶解法,氧化法和两性法等田菁胶化学结构式的主要修饰改进方法进行了详述.总结了修饰改进技术注意事项,并对前景进行了展望.关键词:田菁胶;羧甲基法;羟基法;阳离子......
三明治型酞菁的稀土配合物构建场效应晶体管王天宇,姜建壮北京科技大学化学系功能分子与晶态材料科学与应用北京市重点实验室摘 要:信息科技的高速发展使得开发有机小分子半导体越来越成为迫切的现实需求.而基于酞菁分子独特的π共轭体系,超高的稳定性以及稀土元素丰富的电子能级结构,三明治型酞菁的稀土配合物在构建场效应晶体管方面具有很多优势.事实证明,三明治型酞菁的稀土配合物可以用来构建双极性场效应晶体管,其对电子和空穴载流子都有很高的迁移率.而改变三明治型酞菁的稀土配合物的分子结构和自组装纳米结构都可以调控其所形成的分子半导体器件的特点和性能.本文对近期这些非常有意义的研究进展进行了总结.关键词:三明治型酞菁配合物;稀土;场效应晶体管;迁移率;......
不同偶氮基取代酞菁化合物的合成及性质研究尹彦冰,姜海燕,毛雪,马洁,袁广雪齐齐哈尔大学化学与化学工程学院摘 要:通过较为简便的方法,以邻苯二甲酸酐和尿素为起始原料五步法合成了三种偶氮基取代酞菁.包括2,9,16,23-四-(4-N,N-二甲胺基苯偶氮基)酞菁钴(Ⅱ),2,9,16,23-四-(2,5-二羟基苯偶氮基)酞菁钴(Ⅱ)和2,9,16,23-四-(4-羟基苯偶氮基)酞菁钴(Ⅱ),对产物进行IR,UV-vis光谱测定和表征以及热重分析,对比了四种化合物谱学性质和热稳定性,结果表明:偶氮基取代酞菁与无取代酞菁相比,Q带最大吸收波长发生不同程度的红移,偶氮基取代酞菁钴比无取代的酞菁钴热稳定性要好.关键词:偶氮基;酞菁;合成;表征;......
铜酞菁缓冲层改善有机电致发光器件性能的机理研究 胡远川1,邱勇1,王立铎1,张德强1,董桂芳1 (1.清华大学化学系,北京,100084) 摘要:利用铜酞菁薄膜充当缓冲层,研究了缓冲层对有机电致发光器件性能的影响,研究结果表明含有铜酞菁缓冲层的器件性能明显优于不含有缓冲层的器件,加入铜酞菁缓冲层后器件发光稳定性也得到了改善.本文对相关机理进行了探讨,分析认为,铜酞菁本身的热稳定性和它能够降低空穴注入势垒的性质是提高器件性能的主要原因. 关键词:电致发光; 铜酞菁缓冲层; 界面电阻; [全文内容正在添加中] ......
四羧基酞菁钆和铒的合成,表征及荧光性能的研究周毅,王廷,顾英楠包头师范学院化学学院摘 要:以偏苯三酸酐,尿素,稀土氯化物为主要原料,采用固相合成法合成了四羧基酞菁钆和四羧基酞菁铒两种配合物.通过对其红外光谱,紫外-可见吸收光谱的测定表征,确认所合成的化合物为四羧基酞菁稀土配合物.经荧光光谱的测定得知,合成的两种配合物分别在695.5 nm和702 nm处有较强的荧光发射.关键词:稀土;酞菁配合物;合成;表征;荧光性能;......
