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多孔二氧化硅增透膜的改性研究 李海元1,姜中宏1,唐永兴1,刘瑞军1,贾巧英1 (1.中科院上海光学精密机械研究所,高功率激光物理国家实验室,上海,201800) 摘要:研究了甲基三乙氧基硅烷的预聚体(PMTES)对含有聚乙二醇(PEG)的SiO2悬胶体的稳定性以及所得膜层的结构,形貌和稳定性的影响.结果表明:PMTES的掺杂仅仅改变了SiO2悬胶体的粘度而对其稳定性影响较小,掺杂改性溶胶在室温条件下的存放期超过2个月;当烘烤温度超过200℃时,掺杂剂PMTES的结构开始发生明显变化,改性膜层在150℃烘烤0.5 h后其稳定性大幅度提高,室温下至少可以存放5个月而保持透过率不变;掺杂对膜层的形貌影响甚微,改性膜层结构致密,表面均匀,具有更强的环境适应性. 关键词:溶胶-凝胶; 稳定性; 杂化改性; 多孔二氧化硅膜; [全文内容正在添加中] ......
碱性条件下多孔SiO2增透膜的结构控制彭桦1,夏志林1,薛亦渝1,2,郭培涛2,付志伟1,赵立新11. 武汉理工大学材料科学与工程学院2. 武汉理工大学汽车工程学院摘 要:以正硅酸乙酯为无机前躯体,在碱性条件下,采用溶胶-凝胶技术,用浸渍法提拉工艺制备了二氧化硅透明多孔薄膜.详细研究了催化剂的含量对溶胶及膜层性能的影响.利用Netzsch热分析仪研究了干凝胶在干燥过程中的热稳定性,用扫描电子显微镜(SEM)对样品薄膜的形态结构进行了表征以及用分光光度计考察了薄膜的增透性能.结果表明,氨用量的增加对溶胶黏度的影响不大,但缩短了溶胶达到最佳涂膜效果的陈化时间;随着氨水加入量的增加,SiO2颗粒的粒径增大;掺入有机添加剂N,N-二甲基甲酰胺可以提高薄膜的性能,有效抑制颗粒生长;氨水催化制备的薄膜透过率相对较......
光学级金刚石自支撑膜及其镀制Y2O3增透膜后的高温抗氧化性 王耀华1,吕反修1,郭会斌1,李成明1,黑立富1 (1.北京科技大学材料科学与工程学院,北京,100083) 摘要:为了提高金刚石膜的红外透过率和高温抗氧化性能,采用纯钇(Y)金属靶,使用直流反应磁控溅射法在光学级金刚石自支撑膜表面制备了Y2O3薄膜.对比研究了光学级金刚石自支撑膜和Y2O3/Diamond/Y2O3复合窗口的高温抗氧化性能,及氧化前后样品表面形貌和红外透过率的变化情况.热分析,扫描电子显微镜和傅立叶变换红外光谱仪的研究结果表明Y2O3薄膜对光学级金刚石膜有非常好的抗氧化防护性能,在高达950℃的温度暴露30s后对光学级金刚石膜表面没有造成明显损伤,且仍能保持良好的增透效果(透过率超过80%). 关键词:化学气相沉积(CVD); 金刚石自支撑膜; Y2O3薄膜; 抗氧化性能; [全文内容正在添加中] ......
光学显示双膜系PC镜片的设计与制备徐亮1,涂建军2,李少炳1,张乐1,张其土11. 南京工业大学材料科学与工程学院2. 北方激光科技集团有限公司摘 要:光学显示仪器前的镜片需要通过镀膜来对特定波段形成高反射.以聚碳酸酯(PC)镜片作为基底,采用真空镀膜技术,在PC镜片上镀高反射膜和增透膜,研究了增透膜对消除PC镜片表面二次反射的影响.研究结果表明,PC只有前表面镀反射膜的反射曲线在530 nm处波长的反射率达到85.05%,同时在PC镜片前面镀反射膜和PC镜片后面镀增透膜的反射曲线在530 nm处波长的反射率达到78.33%.PC镜片的反射率降低了6.72%.关键词:PC;增透膜;多层反射膜;反射率;膜系设计;......
Sol-Gel法制备KDP晶体SiO2基防潮减反膜熊怀,李海元,唐永兴上海光学精密机械研究所高功率激光物理国家实验室摘 要:在高功率激光装置中3倍频器高氘化的KD*P晶体相变温度是110℃.在SiO2溶胶合成阶段进行化学改性,将六甲基二硅氮烷(HMDS)加入SiO2溶胶进行化学改性,用非极性溶剂替代乙醇溶剂,涂制的减反膜不需要热处理就可能应用于KDP与KD*P晶体中.单层的改性防潮增透膜的透过率大于99%,膜层均匀性良好,改性膜层本身具有一定的防潮功能,水接触角142o,膜层激光破坏阈值约16.9J/cm2,有希望应用于高功率激光系统的KDP类晶体.关键词:sol-gel法;改性SiO2;防潮增透膜;KDP类晶体;......
聚对二甲苯/SiO2薄膜应用于KDP晶体增透保护膜的制备研究 沈军1,刘枫1,秦仁喜1,吴兆丰1,肖轶群1,吴广明1 (1.同济大学波耳固体物理研究所,上海,200092) 摘要:报道了采用真空化学气相沉积法制备的聚对二甲苯薄膜和采用溶胶-凝胶技术制备的二氧化硅增透膜,通过提拉镀膜法在聚对二甲苯薄膜表面镀制SiO2增透膜得到的双层膜可应用于KDP晶体的增透保护膜.用FT-IR,紫外-近红外分光光度计对聚对二甲苯/SiO2薄膜的结构和光学性能进行了表征和测试.双层膜的透射率达到92%以上,激光损伤阈值为8J/cm2.镀有保护膜的KDP晶体在相对温度稳定的环境下放置半年多后透射率基本保持不变. 关键词:聚对二甲苯; SiO2增透膜; KDP晶体; 保护膜; [全文内容正在添加中] ......
溶胶–凝胶法制备PHFBMA/PFG/SiO2短波长持效增透膜(英文)张清华,惠浩浩,杨伟,卫耀伟,王健,许乔成都精密光学工程研究中心摘 要:在碱性催化条件下,以正硅酸乙酯为前驱体,制备了一种新的,光谱性能持效的短波长减反膜.溶胶制备中,采用20氟基-1,12-十二醇(PFG)控制了二氧化硅颗粒的结构和尺寸,从而一定程度地减小了薄膜的折射率.以PFG修饰的二氧化硅为基础,再采用甲基丙烯酸六氟丁酯的聚合物(PHFBMA)对溶胶进行改性,得到了适用于熔石英基底的PHFBMA/PFG/SiO2减反膜.该改性减反膜在300 nm左右可以达到99.9%的透过率,并且一定湿度条件下和含有机污染物的真空腔室内的考察结果表明,该改性膜层的透过率稳定性获得了显著提升.关键词:减反膜;溶胶–凝胶;短波;疏水......
(electrostatic selfassembly multilayer,ESAM)法制备了聚电介质PDDA与SiO2的光学增透薄膜.研究了制备SiO2溶胶的催化条件对SiO2的光学增透薄膜在可见光区透光特性的影响.用傅立叶红外光谱仪(FT-IR),X光电子能谱(XPS),透射电镜(TEM)对薄膜进行了组成和结构分析,用721分光光度计测试薄膜的透光性能.结果显示,两种薄膜都使基片的透过率得到大大增加.NH3·H2O催化SiO2溶胶制备的SiO2光学增透膜使基片在波长为520nm处透过率达到99.2%,相对于HCl与NH3·H2O分步催化制备的薄膜强,但薄膜的耐刮伤能力较相对较差. 关键词:静电自组装; 二氧化硅; 光学增透膜; 热处理; 催化; [全文内容正在添加中] ......
聚对二甲苯 /SiO2复合薄膜的制备及光学性能研究 周斌1,沈军1,刘枫1,秦仁喜1,吴兆丰1,肖轶群1,吴广明1 (1.同济大学波耳固体物理研究所,上海,200092) 摘要:聚对二甲苯是一种可应用于光学器件和晶体保护的新型高分子材料.采用真空化学气相沉 积法制备聚对二甲苯薄膜,并通过提拉镀膜法在其表面镀制一层 SiO2增透膜,可提高薄膜的透射 率至 90%以上.用 FT- IR,紫外-近红外分光光度计和 XPS对聚对二甲苯 /SiO2复合薄膜结构 和光学性能进行了表征和测试 ,并初步研究了薄膜受紫外光辐照而产生光氧化现象的机理. 关键词:聚对二甲苯; SiO2增透膜; 光氧化; [全文内容正在添加中] ......
蓝紫光倍频晶体ZCTC晶体生长与透过性质研究 宁红霞1,杨兆荷1,袁多荣1,许东1,张光辉1,吕孟凯1,王新强1,程秀凤1 (1.山东大学晶体材料国家重点实验室,山东济南250100) 摘要:硫氰酸锌镉(ZnCd(SCN)4),简称ZCTC,是自行研发的一种蓝紫光倍频晶体.通过恒温蒸发溶液来生长ZCTC晶体,测量了KSCN和ZCTC溶液的透过率曲线,发现SCN-基团是影响ZCTC晶体紫外截止波长的主要因素.研究还发现ZCTC晶体(100)面的透过率要高于(001)面,通过化学镀膜可以减少晶体表面反射损耗.ZCTC晶体经180oC,24h烘烤后,在300-800nm之间透过率明显下降. 关键词:硫氰酸锌镉; 蓝紫光倍频晶体; 单晶生长; 透过光谱; 增透膜; [全文内容正在添加中] ......
