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钨丝-CVD钨复合材料制备及性能分析马捷,李辉,魏建忠,王从曾北京工业大学摘 要:采用自制实验装置,通过化学气相沉积钨过程中间断缠绕钨丝,得到钨丝-CVD钨复合材料.测试分析了材料的密度,成分及显微硬度;通过压溃试验计算出钨复合材料的压溃强度,通过拉伸试验和三点弯曲试验分别绘出拉伸和弯曲曲线.实验结果表明,化学反应温度控制在550℃,WF6和H2流量分别控制在2 g/min和1 L/min时,可得到没有孔洞的致密涂层.与相同工艺条件下不缠钨丝CVD钨样品相比,钨丝-CVD钨复合材料仍具有较高的纯度,致密度,显微硬度大致相同,而压溃强度,抗拉强度和抗弯强度大大提高.关键词:钨丝;CVD钨;复合材料;力学性能;......
化学气相沉积制备纳米结构碳化钨薄膜 马淳安1,赵峰鸣1,郑华均1,朱英红1,黄建国1 (1.浙江工业大学,化工与材料学院,纳米科学与技术工程中心,浙江,杭州,310032;2.浙江工业大学,之江学院,浙江,杭州,310024) 摘要:采用氟化钨(WF6)和甲烷(CH4)为前驱体,采用等离子体增强化学气相沉积(PECVD)方法制备具有纳米结构的碳化钨薄膜.采用SEM,XRD,EDS等方法表征了碳化钨薄膜的形貌,晶体结构和化学组成.通过表征,表明在前驱体混合气体中的甲烷与氟化钨气体的流量比(碳钨比)为20,基底温度为800℃的条件下得到的碳化钨薄膜是由直径为20~35nm的圆球状纳米晶构成.通过分析影响薄膜的晶体结构,化学组成的因素后,认为要得到具有纳米晶结构的碳化钨薄膜,主要应控制前驱体气体中的碳钨比以及基底温度. 关键词:碳化钨; 纳米结构薄膜; 等离子增强化学气相沉积......
难熔金属阴极及涂层研究进展 周美玲1,王金淑1,左铁镛1 (1.北京工业大学,材料学院,北京,100124) 摘要:介绍了稀土钼金属陶瓷阴极,钪钨基扩散阴极及化学气相沉积法制备钨涂层.为了满足大功率磁控管的发展要求,研究了新型稀土钼金属陶瓷阴极.经过高温激活处理后,材料的最大次级发射系数达5.24,实用管型测试结果表明,稀土钼金属陶瓷阴极的性能优于钡钨阴极,显示了良好的应用前景.亚微米结构的钪钨基扩散阴极具有优异的热发射性能,850℃下阴极的发射电流密度可达42A/cm2,激活后Ba,Sc,O等元素形成的活性多层,均匀覆盖在阴极表面,促进了阴极的发射.采用热壁开管气流CVD法,以WF6和H2为反应源气体,可以方便地制备成难熔金属钨沉积层.所获得钨沉积层具有高纯度(>99%)和高致密度(>19 g/cm3). 关键词:钨; 钼; 阴极; 涂层; [全文内容正在添加中] ......