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TbDyFe/FeNi多层膜的磁致伸缩性能 吕凤军1,斯永敏2 (1.北京航空工程技术研究中心,北京,100076;2.国防科技大学航天与材料工程学院,湖南,长沙,410073) 摘要:本文采用磁控溅射工艺制备了TbDyFe/FeNi多层膜,研究了TbDyFe/FeNi多层膜的磁致伸缩性能及其影响因素.研究表明,随着FeNi膜层以及TbDyFe膜层厚度的减少,多层膜磁致伸缩性能增强,线性变化能力增强;通过真空退火,外加磁场镀膜和外加应力镀膜能够有效地提高TbDyFe/FeNi多层膜的磁致伸缩性能. 关键词:磁控溅射; TbDyFe/FeNi多层膜; 真空退火; [全文内容正在添加中] ......
磁感应强度) . 研究表明磁控溅射薄膜中存在短程有序结构, 加硼可进一步提高其无序度从而降低饱和磁场强度, Sm-Fe-3.5%B在0.01 T场强时的磁致伸缩系数达到-340×10-6 [10] . 图1 不同应力状态下TbDyFe薄膜的磁致伸缩性能对比 Fig.1 Comparison of in-plane magnetostriction of TbDyFe films under same condition withdifferent stress 用磁致伸缩符号相同而磁晶各向异性相反的TbFe2和DyFe2化合物组成磁晶各向异性相互补偿的赝二元系化合物, 将大大降低磁晶各向异性, 在块状磁致伸缩材料中得到广泛应用. 对Tb-Dy-Fe系薄膜的研究 [11,12] 表明: Dy的加入降......
