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RF气凝胶扩孔影响因素初探张厚琼,王朝阳,付志兵,刘秀英中国工程物理研究院激光聚变研究中心摘 要:实验需要的间苯二酚-甲醛(RF)气凝胶的孔径大于标准RF气凝胶所形成的孔径.利用双催化技术(即先加碱性催化剂,再加酸催化剂)进行了标准RF气凝胶扩孔实验,该技术通过改变碱,酸催化剂的浓度和碱催化剂作用时间来控制孔径,并缩短凝胶时间来改善微球的非均匀性以提高其产率达到可接受的范围.文中用氮吸附,透射电镜表征了双催化制得的RF气凝胶,并与标准RF小孔样品进行对比分析,并讨论了各种因素对孔径大小及孔径分布的影响.关键词:RF气凝胶;双催化;大孔;孔径分布;......
RF磁控溅射法制备ZnO薄膜的XRD分析 吕珺1,郑治祥1,汪冬梅1,吴玉程1,陈长奇2 (1.合肥工业大学材料科学与工程学院,合肥,230009;2.合肥工业大学机械学院真空实验室,合肥,230009) 摘要:采用RF磁控溅射法,在玻璃衬底上制备多晶ZnO薄膜,并对所制备的ZnO薄膜在空气气氛中进行了不同温度(350~600℃)的退火处理和600℃时N2气氛中的退火处理.利用X射线衍射分析了溅射参数如溅射功率,溅射氧分压,衬底温度以及退火处理对ZnO薄膜结晶性能的影响.结果表明,合适的衬底温度和退火处理能够提高ZnO薄膜的结晶质量. 关键词:ZnO薄膜; RF磁控溅射; XRD; 退火处理; 结晶性能; [全文内容正在添加中] ......
激光聚变靶用RF空心泡沫微球的制备及研究进展 唐永建1,付志兵1,侯海乾2,王朝阳1 (1.中国工程物理研究院激光聚变研究中心,绵阳,621900;2.西南科技大学材料科学与工程学院,绵阳621010;3.中国工程物理研究院激光聚变研究中心,绵阳621900) 摘要:在惯性约束聚变研究中,RF空心泡沫微球具有低原子序数(Z),低密度(ρ)可以降低辐射驱动内爆过程中燃料预热及流体力学不稳定性,提高实验增益,并且由于光学透明性便于实验过程的诊断,成为以后直接驱动点火的首选靶材料.综述了几种制备方法的基本原理,成球过程控制,在惯性约束聚变制靶中的地位及RF空心微球的国内外发展现状及研究进展. 关键词:惯性约束聚变; RF空心泡沫微球; 制备方法; [全文内容正在添加中] ......
Trans. Nonferrous Met. Soc. China 26(2016) 1655-1662 Structural and optoelectronic properties of AZO thin films prepared by RF magnetron sputtering at room temperature Yi-hua SUN1, Hai-lin WANG1... target by RF magnetron sputtering at room temperature. The microstructure, surface morphology, optical and electrical properties of AZO thin films were investigated by X-ray diffractometer, scanning......
退火温度对RF磁控溅射ZnO薄膜力学性能的影响 王翔1,黄文浩1,张天林1 (1.中国科学技术大学精密仪器与精密机械系,合肥,230026) 摘要:采用X射线衍射分析(XRD),原子力显微镜(AFM)及纳米压痕技术测试分析了多晶ZnO薄膜的晶格结构和力学性能.薄膜的制备采用了射频(RF)磁控溅射方法,并分别在不同温度下进行了退火处理.XRD分析显示随着退火温度的上升,薄膜的晶粒尺寸逐步增大...表明适当的退火处理对ZnO薄膜的结晶品质与力学性能有明显的改善. 关键词:X衍射分析; 原子力显微镜; 纳米压痕; RF磁控溅射; 退火; [全文内容正在添加中] ......
沉积条件对RF反应溅射多晶ZnO薄膜结构的影响 杨映虎1,王印月1,龚恒翔1,阎志军1 (1.兰州大学物理科学与技术学院,兰州,730000) 摘要:采用RF反应溅射法在Si(111),玻璃衬底上制备了具有良好C轴取向的多晶ZnO薄膜.用XRD分析了沉积条件(衬底温度,工作气体中的氧与氩气压比和衬底种类)对样品结构的影响.发现(1)薄膜的取向性随着衬底温度的升高而增强,超过400℃后薄膜质量开始变差;(2)工作气体中氧与氩气压比(PO2/PAr)为2:3时,薄膜取向性最好;(3)薄膜晶粒尺寸11~34nm,相同沉积条件下,单晶硅衬底样品(002)衍射峰强度减弱,半高宽无明显变化. 关键词:ZnO薄膜; RF反应溅射; 择优取向; [全文内容正在添加中] ......
RF炭气凝胶孔结构的控制及其电化学性能研究 朱玉东1,赵海霞1,胡浩权1,李文翠1 (1.大连理工大学煤化工研究所,精细化工国家重点实验室,辽宁,大连,116012) 摘要:考察了在以间苯二酚(R)和甲醛(F)为原料,碳酸钠(C)为碱性催化剂,通过溶胶.凝胶过程和常压干燥方法制备RF炭气凝胶过程中CO2活化对炭气凝胶孔结构的影响,并通过恒流充放电和循环伏安法测试其电化学性能.结果表明:CO2活化可明显提高炭气凝胶BET比表面积(SBET)和孔容(Vtotal).RF炭气凝胶在900℃下活化3h,SBET从未活化时的633m2/g提高到1271m2/g;相应的电化学测试结果表明,以1mA/cm2的电流充放电,其比电容可从未活化样的81F/g增加到172F/g;以30mA/cm2的电流进行充放电试验,活化样的比电容仍可达到131 F/g. 关键词:RF炭气凝胶; 孔结构; 比电容......
Preparation of TiAlN/ZrN and TiCrN/ZrN multilayers by RF magnetron sputtering Jong-Kook LEE1, 2, Gwon-Seung YANG1 1. Department of Advanced Materials Engineering, Chosun University, Gwangju... prepared by RF magnetron sputtering, and their microstructural evolution and corrosion resistance during heat treatment were investigated. The TiAlN/ZrN and TiCrN/ZrN multilayer coatings are degraded......
退火处理对不同RF功率下制备ZnO薄膜的结晶性能的影响 吕珺1,郑治祥1,汪冬梅1,吴玉程1,陈长奇2 (1.U;2.合肥工业大学机械学院真空实验室,安徽,合肥,230009) 摘要:采用RF磁控溅射法,在不同溅射功率下在玻璃衬底上制备了ZnO薄膜,并对所制备的ZnO薄膜在空气气氛中进行了不同温度(350-600℃)的退火处理.利用X射线衍射仪(XRD),扫描电子显微镜(SEM)等研究了退...晶性能和应力的影响基本一致. 关键词:ZnO薄膜; RF磁控溅射; 溅射功率; 退火处理; 结晶性能; 应力; [全文内容正在添加中] ......
RF磁控溅射制备Al2O3薄膜及其介电性能研究 程晓农1,刘红飞1,张志萍1,付廷波1,徐桂芳1 (1.江苏大学材料科学与工程学院,江苏,镇江,212013) 摘要:以α-Al2O3为靶材,采用射频磁控溅射法制备了非晶Al2O3薄膜.利用X射线衍射仪,扫描电镜,划痕仪,表面粗糙轮廓仪和阻抗仪研究了不同溅射功率和不同溅射气压对薄膜制备的影响,探索了不同溅射功率下制备的Al2O3薄膜的介电常数和介电损耗与频率的关系.试验结果表明,制备的非晶Al2O3薄膜表面平滑致密;随着工作气压的增加,薄膜沉积速率增加;随着溅射功率的增加,Al2O3薄膜的沉积速率和介电常数逐渐增加,介电损耗逐渐减小;随着频率的增加,Al2O3薄膜的介电常数逐渐减小,高频阶段趋于稳定. 关键词:Al2O3薄膜; RF磁控溅射; 沉积速率; 介电损耗; 介电常数; [全文内容正在添加中] ......
