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磁控溅射制备TiAlCrN硬质薄膜及其抗腐蚀性能

来源期刊:材料保护2009年第9期

论文作者:程立军 宋庆功

关键词:反应磁控共溅射; TiAlcrN薄膜; 原子力显微镜; 抗腐蚀性; Cr含量;

摘    要:采用反应磁控共溅射的方法,通过改变Cr靶溅射功率,在不锈钢基体上沉积不同Cr含量TiAlcrN薄膜.采用原子力显微镜(AFM)观察薄膜表面形貌;采用动电位极化试验研究薄膜的电化学腐蚀行为.结果表明:沉积的TiAlCrN薄膜表面平整、光滑、致密,无孔洞和突起等缺陷,晶粒细小,粗糙度低;TiAlcrN薄膜的抗腐蚀性好于不锈钢和TiAlN薄膜,且随Cr含量增加而增强.Cr含量为25.5%(原子分数)试样成膜质量最好,其抗腐蚀性约为不锈钢的15.0倍,约为TiAlN薄膜的7.7倍.



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磁控溅射制备TiAlCrN硬质薄膜及其抗腐蚀性能

程立军1,宋庆功2

(1.河北工业大学理学院,天津,300130;
2.中国民航大学理学院,天津,300300)

摘要:采用反应磁控共溅射的方法,通过改变Cr靶溅射功率,在不锈钢基体上沉积不同Cr含量TiAlcrN薄膜.采用原子力显微镜(AFM)观察薄膜表面形貌;采用动电位极化试验研究薄膜的电化学腐蚀行为.结果表明:沉积的TiAlCrN薄膜表面平整、光滑、致密,无孔洞和突起等缺陷,晶粒细小,粗糙度低;TiAlcrN薄膜的抗腐蚀性好于不锈钢和TiAlN薄膜,且随Cr含量增加而增强.Cr含量为25.5%(原子分数)试样成膜质量最好,其抗腐蚀性约为不锈钢的15.0倍,约为TiAlN薄膜的7.7倍.

关键词:反应磁控共溅射; TiAlcrN薄膜; 原子力显微镜; 抗腐蚀性; Cr含量;

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