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磁控溅射法制备WO3薄膜及其非线性电学性质

来源期刊：功能材料与器件学报2003年第1期

论文作者：王豫陈敏姚凯伦羊新胜刘祖黎魏合林

关键词：三氧化钨; 薄膜; 非线性电阻特性;

摘要：利用射频磁控溅射方法在石英玻璃基片上制备了 WO3薄膜,测量了薄膜的伏安特性和显微结构.实验表明实验制备了颗粒小于 100nm的 WO3多晶膜,薄膜具有良好的非线性电学行为,其非线性系数在 0.1 ～ 1mA的范围内可达到 10以上.简略讨论了 WO3薄膜的非线性电输运机理.

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王豫¹，陈敏¹，姚凯伦¹，羊新胜¹，刘祖黎¹，魏合林¹

(1.华中科技大学物理系,武汉,430074)

摘要:利用射频磁控溅射方法在石英玻璃基片上制备了 WO3薄膜,测量了薄膜的伏安特性和显微结构.实验表明实验制备了颗粒小于 100nm的 WO3多晶膜,薄膜具有良好的非线性电学行为,其非线性系数在 0.1 ～ 1mA的范围内可达到 10以上.简略讨论了 WO3薄膜的非线性电输运机理.

关键词:三氧化钨; 薄膜; 非线性电阻特性;

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