双脉冲磁控溅射峰值靶电流密度对TiN薄膜结构与力学性能的影响

来源期刊：金属学报2018年第6期

论文作者：时惠英 杨超 蒋百灵 黄蓓 王迪

文章页码：927 - 934

关键词：TiN薄膜;双脉冲磁控溅射技术;双脉冲电场;峰值靶电流密度;力学性能;

摘    要：自主研发了双脉冲磁控溅射技术,提出在一个脉冲周期内电流呈阶梯式上升的双脉冲电场设计理念,通过对2个脉冲阶段持续时间和峰值靶电流密度的调配,既满足提高镀料粒子动能与离化率以制备高性能薄膜的工艺要求,又达到增加脉冲持续时间以提高薄膜沉积速率的效能目标。采用双脉冲磁控溅射技术,在后期脉冲阶段的不同峰值靶电流密度下制备4组TiN薄膜,研究了峰值靶电流密度对薄膜微观结构和力学性能的影响。结果表明,将峰值靶电流密度提高至0.87 A/cm~2时,所制备的TiN薄膜呈现出颗粒细小且致密的组织,平均晶粒尺寸为17 nm。同时,薄膜的显微硬度和膜基结合力可分别达29.5 GPa和30.0 N。