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Ta含量对Ti/IrO2-Ta2O5电极电容性能影响

来源期刊:稀有金属材料与工程2017年第9期

论文作者:贺冲 陈志杰 林德源 陈云翔 邵艳群 伊昭宇 唐电

文章页码:2589 - 2593

关键词:二氧化铱;五氧化二钽;超级电容器;交流阻抗谱;

摘    要:采用低温热分解法制备了Ti基IrO2-Ta2O5氧化物涂层电极。通过X射线衍射(XRD),循环伏安曲线,交流阻抗谱,恒流充放电等测试方法分析了Ta含量对IrO2-Ta2O5氧化物涂层组织结构及电容性能的影响。结果表明,Ta2O5可抑制IrO2的晶化程度。随涂层中Ta含量增加,晶化度降低。当Ta含量为60 mol%时,IrO2-Ta2O5电极的结晶度为6.4%,具有较小的电荷转移电阻和最高的比电容(239.2 F/g),比IrO2电极比电容(54.1 F/g)提高了近4倍。

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Ta含量对Ti/IrO2-Ta2O5电极电容性能影响

贺冲1,陈志杰1,林德源2,陈云翔2,邵艳群1,伊昭宇1,唐电1

1. 福州大学2. 国网福建省电力有限公司电力科学研究院

摘 要:采用低温热分解法制备了Ti基IrO2-Ta2O5氧化物涂层电极。通过X射线衍射(XRD),循环伏安曲线,交流阻抗谱,恒流充放电等测试方法分析了Ta含量对IrO2-Ta2O5氧化物涂层组织结构及电容性能的影响。结果表明,Ta2O5可抑制IrO2的晶化程度。随涂层中Ta含量增加,晶化度降低。当Ta含量为60 mol%时,IrO2-Ta2O5电极的结晶度为6.4%,具有较小的电荷转移电阻和最高的比电容(239.2 F/g),比IrO2电极比电容(54.1 F/g)提高了近4倍。

关键词:二氧化铱;五氧化二钽;超级电容器;交流阻抗谱;

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