沉积温度对磁控溅射Ni₃Al-Cr薄膜微观结构及性能的影响

来源期刊：功能材料2013年第4期

论文作者：邢永燕 魏贤华 马拥军 代波

文章页码：483 - 487

关键词：薄膜;磁控溅射;微观结构;抗腐蚀性能;力学性能;

摘    要：通过磁控溅射分别在300、400、500和600℃下沉积了Ni3Al-Cr薄膜。采用X射线衍射（XRD）和原子力显微镜（AFM）表征了薄膜的晶体结构和表面形貌,通过方阻法检测了薄膜的抗腐蚀性能,采用纳米压痕表征了薄膜的硬度。结果表明,沉积温度对薄膜的微观结构、抗腐蚀及力学性能有重要影响。随着沉积温度的升高,薄膜晶粒及颗粒尺寸增大,300℃时形成尺寸均匀的立方体小颗粒,400和500℃时颗粒长大且致密堆积,600℃时部分颗粒过度长大。在400℃沉积的薄膜兼具最优的抗腐蚀性和力学性能。证明了方阻法表征薄膜抗腐蚀性能的可靠性。