溅射制备Ni-Mn-Ga磁性形状记忆合金薄膜的组织结构研究
来源期刊：材料工程2008年增刊第1期
论文作者：卢寅蓓 李莱芝 何亮 钱士强
关键词：Ni-Mn-Ga合金; 磁控溅射; 磁性形状记忆合金;
摘 要：采用磁控溅射法制备Ni-Mn-Ga磁性形状记忆合金薄膜,并将制备薄膜在不同的温度下进行真空热处理.研究了不同工艺条件下制备薄膜的结构、形貌和磁性.结果表明:采用磁控溅射在单晶Si基底上溅射Ni-Mn-Ga磁性形状记忆合金薄膜,主要为沿基底法线方向的柱状晶结构,随着热处理温度提高,薄膜晶化程度提高,沉积在Cu基底上的薄膜磁性优于沉积在Si基底上薄膜的磁性.
卢寅蓓1，李莱芝1，何亮1，钱士强1
(1.上海工程技术大学材料工程学院,上海,201620)
摘要:采用磁控溅射法制备Ni-Mn-Ga磁性形状记忆合金薄膜,并将制备薄膜在不同的温度下进行真空热处理.研究了不同工艺条件下制备薄膜的结构、形貌和磁性.结果表明:采用磁控溅射在单晶Si基底上溅射Ni-Mn-Ga磁性形状记忆合金薄膜,主要为沿基底法线方向的柱状晶结构,随着热处理温度提高,薄膜晶化程度提高,沉积在Cu基底上的薄膜磁性优于沉积在Si基底上薄膜的磁性.
关键词:Ni-Mn-Ga合金; 磁控溅射; 磁性形状记忆合金;
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