Cr掺杂对Cu₃N薄膜结构、形貌和光学特性的影响

来源期刊：材料导报2015年第S2期

论文作者：刘文杰 杨蓉 韩佳 李兴鳌

文章页码：301 - 305

关键词：Cu3N薄膜;Cr掺杂;吸收光谱;光学带隙;

摘    要：采用射频反应磁控溅射镀膜方法在玻璃基底上制备了Cr掺杂Cu3N薄膜,并研究了Cr掺杂对Cu3N薄膜的结构、形貌和光学特性的影响。X射线衍射结果显示Cr的掺入并不会改变薄膜的择优生长方向,但是随着Cr掺杂浓度的增加,一方面衍射峰会逐渐减弱,说明Cr会抑制Cu3N的结晶和生长;另一方面衍射峰会向小角度偏移,说明Cu3N的晶格常数在逐渐增大。扫描电子显微镜结果显示随着Cr掺杂浓度的增加,颗粒尺寸逐渐变小,但一直保持球形,这与X射线衍射结果一致。吸收光谱曲线显示随着Cr掺杂浓度的增加,其吸收率在不断下降。同时Cr掺杂使得Cu3N薄膜的光学帯隙从1.498eV减小到1.0eV,实现了帯隙的连续可调。