工艺参数对磁力搅拌-化学沉积Ni-P-SiC镀层的影响
来源期刊：兵器材料科学与工程2012年第5期
论文作者：马春阳 田济语 杨占发
文章页码：57 - 59
关键词：磁力搅拌;Ni-P-SiC镀层;工艺;显微硬度;表面形貌;
摘 要：用磁力搅拌-化学沉积的方法,在45钢表面沉积Ni-P-SiC镀层。研究了SiC微粒添加量、搅拌速率以及镀液温度等对镀层硬度和表面形貌的影响,借助扫描电子显微镜（SEM）对镀层进行观察。结果表明:当SiC的质量浓度为10 g/L时,镀层显微硬度最大（615.2HV）;当磁力搅拌速率为300 r/min时,镀层的显微硬度最大（632.8HV）。磁力搅拌-化学沉积Ni-P-SiC镀层的最佳工艺参数为:SiC添加的质量浓度10 g/L,搅拌速率300 r/min,温度85℃。
马春阳1，田济语1，杨占发2
1. 东北石油大学机械科学与工程学院2. 大庆油田采油四厂
摘 要：用磁力搅拌-化学沉积的方法,在45钢表面沉积Ni-P-SiC镀层。研究了SiC微粒添加量、搅拌速率以及镀液温度等对镀层硬度和表面形貌的影响,借助扫描电子显微镜（SEM）对镀层进行观察。结果表明:当SiC的质量浓度为10 g/L时,镀层显微硬度最大（615.2HV）;当磁力搅拌速率为300 r/min时,镀层的显微硬度最大（632.8HV）。磁力搅拌-化学沉积Ni-P-SiC镀层的最佳工艺参数为:SiC添加的质量浓度10 g/L,搅拌速率300 r/min,温度85℃。
关键词：磁力搅拌;Ni-P-SiC镀层;工艺;显微硬度;表面形貌;
