脉冲宽量对GCr15基体温升及其镀层结构与性能的影响

张静¹，郭腾¹，郝娟¹，丁郁航¹，蒋百灵^1,2，杨钊¹

1. 西安理工大学材料科学与工程学院2. 南京工业大学材料科学与工程学院

摘 要：采用离子镀技术于淬火态GCr15表面沉积Ti镀层,通过改变脉冲宽量,对GCr15基体温升进行控制。采用X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、显微硬度计、纳米压痕仪、洛氏硬度计、光学显微镜等研究脉冲宽量对镀层的微观组织及力学性能的影响。结果表明:脉冲电场模式下,脉冲宽量为2 ms时,基体温升得到有效控制,且随着脉冲宽量的增大,基体温升从40℃升高到275℃时,薄膜晶化程度增强,平均晶粒尺寸由10.1 nm增大至14.6 nm,硬度、弹性模量提高约50%,韧性降低约18%,膜基结合力降低。

关键词：离子镀;基体温升;GCr15;Ti薄膜;力学性能;