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Mo缓冲层在溅射ZnO薄膜中的应用

来源期刊：中国钼业2012年第5期

论文作者：吴思诚王旋范海波郑新亮姚合宝赵宝华

文章页码：37 - 40

关键词：磁控溅射;ZnO薄膜;Mo薄膜;缓冲层;

摘要：ZnO薄膜材料作为一种新兴的材料,在半导体光电子领域有着广泛的应用前景。本文利用磁控溅射法在Si衬底上先生长一层Mo缓冲层,然后在Mo缓冲层上制备ZnO薄膜。通过性能对比发现,Mo缓冲层对于ZnO的结晶性能和发光性能的提高具有明显的改善作用。

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吴思诚¹，王旋¹，范海波¹，郑新亮¹，姚合宝¹，赵宝华²

1. 西北大学物理学系2. 金堆城钼业股份有限公司技术中心

关键词：磁控溅射;ZnO薄膜;Mo薄膜;缓冲层;