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微波等离子CVD法在石英玻璃上生长金刚石薄膜

来源期刊：材料保护2002年第10期

论文作者：朱建勇柴欣梅炳初李力

关键词：化学气相沉积法; X射线衍射; Raman光谱; 光电子能谱; 金刚石薄膜;

摘要：在真空条件下采用氢气刻蚀二氧化硅形成硅膜,用微波等离子化学气相沉积法在玻璃上生长金刚石薄膜,并用X射线衍射、Raman光谱和光电子能谱对石英玻璃上的金刚石薄膜进行分析,指出其形成中间层SiO-2/Si/SiC/C(金刚石)是在石英玻璃上生长金刚石薄膜的关键.

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朱建勇¹，柴欣¹，梅炳初¹，李力¹

(1.武汉理工大学,复合材料复合新技术国家重点实验室,湖北,武汉,430070)

摘要:在真空条件下采用氢气刻蚀二氧化硅形成硅膜,用微波等离子化学气相沉积法在玻璃上生长金刚石薄膜,并用X射线衍射、Raman光谱和光电子能谱对石英玻璃上的金刚石薄膜进行分析,指出其形成中间层SiO-2/Si/SiC/C(金刚石)是在石英玻璃上生长金刚石薄膜的关键.

关键词:化学气相沉积法; X射线衍射; Raman光谱; 光电子能谱; 金刚石薄膜;

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