偏压对金刚石薄膜选择性成核和生长影响的研究
来源期刊:功能材料2000年第5期
论文作者:夏义本 张文广 王林军 居建华
关键词:金刚石薄膜; 偏压形核; 选择性生长;
摘 要:利用偏压增强MPCVD法成功地实现了金刚石薄膜在附有SiO2掩膜图形的镜面抛光的Si(100)上的选择性织构生长,列举了最佳偏压成核与选择性生长条件,SEM和Raman光谱对所得样品进行了表征,并对偏压对选择性成核和生长的影响机制进行了探讨.
夏义本1,张文广1,王林军1,居建华1
(1.上海大学材料科学与工程学院无机材料系,上海,201800)
摘要:利用偏压增强MPCVD法成功地实现了金刚石薄膜在附有SiO2掩膜图形的镜面抛光的Si(100)上的选择性织构生长,列举了最佳偏压成核与选择性生长条件,SEM和Raman光谱对所得样品进行了表征,并对偏压对选择性成核和生长的影响机制进行了探讨.
关键词:金刚石薄膜; 偏压形核; 选择性生长;
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