温度对化学水浴法制备ZnS薄膜的影响
来源期刊：材料导报2010年第4期
论文作者：郭岚 徐鹏 刘庭芝
关键词：化学水浴; ZnS薄膜; 沉积温度; chemical bath deposition; ZnS thin films; deposition temperature;
摘 要：采用化学水浴法在玻璃上制备了太阳能电池中的ZnS缓冲层,采用SEM、EDS、XRD和nkd-分光光度计等手段研究了水浴温度对ZnS薄膜的表面形貌、结构和光学性能的影响.结果表明,升高温度不能明显改变薄膜的结晶性、形貌和沉积生长方式.能否成膜与温度的关系也不大,但成膜速率对温度的依赖性较大.随温度的升高,薄膜的透过率先减小后增大,反射率则先增大后减小.对同一试样而言,透过率和反射率对应较好.当温度为70℃时,可制得禁带宽度为3.83eV、符合化学计量比、平整的非晶ZnS薄膜.
郭岚1，徐鹏1，刘庭芝2
(1.南昌大学分析测试中心,南昌,330047;
2.江西科技师范学院江西省表面材料工程重点实验室,南昌,330029)
摘要:采用化学水浴法在玻璃上制备了太阳能电池中的ZnS缓冲层,采用SEM、EDS、XRD和nkd-分光光度计等手段研究了水浴温度对ZnS薄膜的表面形貌、结构和光学性能的影响.结果表明,升高温度不能明显改变薄膜的结晶性、形貌和沉积生长方式.能否成膜与温度的关系也不大,但成膜速率对温度的依赖性较大.随温度的升高,薄膜的透过率先减小后增大,反射率则先增大后减小.对同一试样而言,透过率和反射率对应较好.当温度为70℃时,可制得禁带宽度为3.83eV、符合化学计量比、平整的非晶ZnS薄膜.
关键词:化学水浴; ZnS薄膜; 沉积温度; chemical bath deposition; ZnS thin films; deposition temperature;
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