WBE技术研究水线区破损涂层的剥离机制
来源期刊:中国腐蚀与防护学报2016年第1期
论文作者:陈亚林 张伟 丁葵英 王佳 尹鹏飞 董彩常 杨万国
文章页码:67 - 72
关键词:阵列电极;水线区;涂层剥离;电流分布;阻抗谱;
摘 要:应用阵列电极(WBE)和电化学阻抗谱(EIS)技术,研究了破损涂层在3.5%(质量分数)Na Cl溶液中的电流分布及阻抗谱,并根据电流分布和涂层阻抗变化探究了破损涂层在水线区的剥离机制。结果表明:人为破损和涂层固有缺陷均对其附近涂层有加速阴极剥离的作用。浸泡初期,缺陷处涂层最先剥离,此后,涂层剥离主要在破损处和缺陷处附近优先发展。并且在水线作用下,缺陷处附近的涂层剥离向水线方向发展。水线上涂层较水线下剥离较晚,其剥离速率主要受水在涂层中的渗透速率控制。
陈亚林1,2,张伟1,2,丁葵英3,王佳4,5,尹鹏飞1,2,董彩常1,2,杨万国1,2
1. 钢铁研究总院青岛海洋腐蚀研究所3. 潍坊出入境检验检疫局4. 中国海洋大学化学化工学院5. 中国科学院金属研究所
摘 要:应用阵列电极(WBE)和电化学阻抗谱(EIS)技术,研究了破损涂层在3.5%(质量分数)Na Cl溶液中的电流分布及阻抗谱,并根据电流分布和涂层阻抗变化探究了破损涂层在水线区的剥离机制。结果表明:人为破损和涂层固有缺陷均对其附近涂层有加速阴极剥离的作用。浸泡初期,缺陷处涂层最先剥离,此后,涂层剥离主要在破损处和缺陷处附近优先发展。并且在水线作用下,缺陷处附近的涂层剥离向水线方向发展。水线上涂层较水线下剥离较晚,其剥离速率主要受水在涂层中的渗透速率控制。
关键词:阵列电极;水线区;涂层剥离;电流分布;阻抗谱;