基底温度复合控制对化学气相沉积纳米金刚石薄膜的影响

张湘辉^1,2，汪灵^1,2，龙剑平^1,2，邓苗¹，冯珊¹

1. 成都理工大学材料与化学化工学院2. 成都理工大学金刚石薄膜实验室

摘 要：采用自主研制的具有基底温度开-闭环复合自动控制系统的直流弧光放电PCVD设备,当开环流量不同时,在硬质合金基体表面分别进行了纳米金刚石薄膜制备研究。并采用SEM、XRD、激光Raman光谱仪对所制备薄膜的形貌、物相和品质进行了分析。研究结果表明,当开环流量从10→5→15→20mL/min变化时,所制备纳米金刚石薄膜的表面粗糙度及石墨成分会随之增加,金刚石晶粒转变为以（110）面生长为主,且尺寸增大;并加剧了硬质合金基体中Co相粘结剂向基体表面的扩散。温控中基底温度的波动（稳定性）是影响纳米金刚石薄膜生长性能的主要原因。

关键词：直流弧光放电等离子体化学气相沉积法;纳米金刚石薄膜;基底温度;开-闭环复合控制;