化学还原法制备六方B-C-N化合物
来源期刊：无机材料学报2008年第5期
论文作者：胡前库 吴庆华 孙广 于栋利
关键词：六方; B-C-N; 化合物; 化学还原法合成; XRD; 电子能量损失谱;
摘 要：采用氰尿酰氯和三溴化硼为原料,金属钠为还原剂,通过化学还原法在450℃合成了B-C-N化合物.利用X射线衍射(XRD),透射电子显微镜(TEM),选区电子衍射(SAED),电子能量损失谱(EELS)和傅立叶变换红外光谱(FTIR)对合成的样品进行了表征.分析结果表明,所合成的B-C-N化合物具有六方多晶结构,其成分为B0.5C0.07N0.43.
胡前库1，吴庆华1，孙广1，于栋利2
(1.河南理工大学,材料科学与工程学院,焦作,454000;
2.燕山大学,亚稳材料制备技术与科学国家重点实验实,秦皇岛,066004)
摘要:采用氰尿酰氯和三溴化硼为原料,金属钠为还原剂,通过化学还原法在450℃合成了B-C-N化合物.利用X射线衍射(XRD),透射电子显微镜(TEM),选区电子衍射(SAED),电子能量损失谱(EELS)和傅立叶变换红外光谱(FTIR)对合成的样品进行了表征.分析结果表明,所合成的B-C-N化合物具有六方多晶结构,其成分为B0.5C0.07N0.43.
关键词:六方; B-C-N; 化合物; 化学还原法合成; XRD; 电子能量损失谱;
【全文内容正在添加中】
