侧链含有两种介晶基元的聚硅氧烷类液晶聚合物的制备与性能
来源期刊：高分子材料科学与工程2002年第3期
论文作者：丛越华 张宝砚 王文彬 贾莹光
关键词：4-联苯二酚基-4′-(2-乙基己酰基)-4-烯丙氧基苯甲酸酯; 两种介晶基元; 聚硅氧烷; 合成与性能;
摘 要：合成了侧基带有两种介晶基元的聚硅氧烷类系列液晶聚合物(P1～P5),所用介晶单体M1为4-联苯二酚基-4′-(2-乙基己酰基)-4-烯丙氧基苯甲酸酯,M2为4-烯丙氧基苯甲酰氧基-4′-甲氧基苯,它们介晶区间分别为39 ℃和7.9 ℃.只含有单体M1的聚合物P1和只含有单体M2的聚合物P5的介晶区间分别为70.8 ℃和75.1 ℃;但是同时含有不同摩尔比的M1和M2的液晶聚合物P2～P4的介晶区间为240～255 ℃,比只含有-种介晶基元的P1或P5拓宽了约170 ℃,所有聚合物均低于室温就有液晶性能,且耐热性达310 ℃以上,属于非晶近晶织构.
丛越华1，张宝砚1，王文彬1，贾莹光1
(1.东北大学化学系,辽宁,沈阳,110006)
摘要:合成了侧基带有两种介晶基元的聚硅氧烷类系列液晶聚合物(P1～P5),所用介晶单体M1为4-联苯二酚基-4′-(2-乙基己酰基)-4-烯丙氧基苯甲酸酯,M2为4-烯丙氧基苯甲酰氧基-4′-甲氧基苯,它们介晶区间分别为39 ℃和7.9 ℃.只含有单体M1的聚合物P1和只含有单体M2的聚合物P5的介晶区间分别为70.8 ℃和75.1 ℃;但是同时含有不同摩尔比的M1和M2的液晶聚合物P2～P4的介晶区间为240～255 ℃,比只含有-种介晶基元的P1或P5拓宽了约170 ℃,所有聚合物均低于室温就有液晶性能,且耐热性达310 ℃以上,属于非晶近晶织构.
关键词:4-联苯二酚基-4′-(2-乙基己酰基)-4-烯丙氧基苯甲酸酯; 两种介晶基元; 聚硅氧烷; 合成与性能;
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