磁控溅射对薄膜附着力的影响
来源期刊：绝缘材料2008年第6期
论文作者：陈莹 余凤斌
关键词：磁控溅射; 附着力; 综述;
摘 要：磁控溅射技术因具有溅射速率高、无污染、可制备各种不同功能的薄膜等优点而得到广泛地应用.综述了薄膜附着力机理,分析了影响薄膜性能的因素,结果表明,薄膜的附着力是影响薄膜性能的主要因素.影响薄膜附着力的因素有:基材的表面清洁度、制备薄膜的各种工艺参数、热处理、原料的纯度等.
陈莹1，余凤斌2
(1.山东现代职业学院,济南,250108;
2.山东天诺光电材料有限公司,济南,250101)
摘要:磁控溅射技术因具有溅射速率高、无污染、可制备各种不同功能的薄膜等优点而得到广泛地应用.综述了薄膜附着力机理,分析了影响薄膜性能的因素,结果表明,薄膜的附着力是影响薄膜性能的主要因素.影响薄膜附着力的因素有:基材的表面清洁度、制备薄膜的各种工艺参数、热处理、原料的纯度等.
关键词:磁控溅射; 附着力; 综述;
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