反应溅射制备非晶Al2O3薄膜的介电特性
来源期刊:材料科学与工程学报2000年第3期
论文作者:狄国庆 赵登涛 朱炎
关键词:反应射频磁控溅射; 介电性质; 非晶; 氧化铝薄膜;
摘 要:在氧气、氩气的混合气氛中,利用反应射频磁控溅射制备了厚度在100到10纳米的非晶氧化铝薄膜.通过Al-Al2O3-Al电容器研究了此非晶薄膜的介电性质.
狄国庆1,赵登涛1,朱炎1
(1.苏州大学物理系薄膜材料实验室,江苏,苏州,215006)
摘要:在氧气、氩气的混合气氛中,利用反应射频磁控溅射制备了厚度在100到10纳米的非晶氧化铝薄膜.通过Al-Al2O3-Al电容器研究了此非晶薄膜的介电性质.
关键词:反应射频磁控溅射; 介电性质; 非晶; 氧化铝薄膜;
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