复合抛光对CVD金刚石薄膜表面光洁度的改进研究
来源期刊：无机材料学报2006年第2期
论文作者：史伟民 夏义本 苏青峰 王林军
关键词：CVD金刚石薄膜; 复合抛光; 表面粗糙度;
摘 要：采用激光抛光和热化学抛光相结合的方法,对通过热丝CVD方法生长的金刚石薄膜进行了复合抛光处理.并利用X射线衍射仪(XRD)、拉曼光谱仪(Raman)、扫描电子显微镜(SEM)和原子力显微镜(AFM)对金刚石薄膜进行了表征.结果表明,所合成的金刚石薄膜是高质量的多晶(111)取向膜;经复合抛光后,金刚石薄膜的结构没有因抛光而发生改变,金刚石薄膜的表面粗糙度明显降低,光洁度大幅度提高,表面粗糙度Ra在100nm左右,基本可以达到应用的要求.
史伟民1，夏义本1，苏青峰1，王林军1
(1.上海大学材料科学与工程学院电子信息材料系,上海,200072)
摘要:采用激光抛光和热化学抛光相结合的方法,对通过热丝CVD方法生长的金刚石薄膜进行了复合抛光处理.并利用X射线衍射仪(XRD)、拉曼光谱仪(Raman)、扫描电子显微镜(SEM)和原子力显微镜(AFM)对金刚石薄膜进行了表征.结果表明,所合成的金刚石薄膜是高质量的多晶(111)取向膜;经复合抛光后,金刚石薄膜的结构没有因抛光而发生改变,金刚石薄膜的表面粗糙度明显降低,光洁度大幅度提高,表面粗糙度Ra在100nm左右,基本可以达到应用的要求.
关键词:CVD金刚石薄膜; 复合抛光; 表面粗糙度;
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