脉冲激光沉积(PLD)的研究动态与新发展
来源期刊:材料导报2005年第2期
论文作者:金克新 李谭 赵省贵 王永仓 高国棉 陈钊 陈长乐
关键词:PLD; 等离子体; 薄膜沉积;
摘 要:介绍了脉冲激光沉积薄膜技术的原理、特点,详细探讨了脉冲激光沉积的研究动态和发展趋势.大量研究表明,PLD技术是目前制备薄膜的最好方法之一.
金克新1,李谭1,赵省贵1,王永仓1,高国棉1,陈钊1,陈长乐1
(1.西北工业大学理学院,西安,710072;
2.空军工程大学理学院,西安,710052)
摘要:介绍了脉冲激光沉积薄膜技术的原理、特点,详细探讨了脉冲激光沉积的研究动态和发展趋势.大量研究表明,PLD技术是目前制备薄膜的最好方法之一.
关键词:PLD; 等离子体; 薄膜沉积;
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