黄铜表面硅烷膜制备工艺的正交试验优选及膜层的耐蚀性能

周洋^1,2，伏文²，周灿¹，于洋¹，刘青华¹，鲁道荣²

1. 华电电力科学研究院有限公司山东分公司2. 合肥工业大学化学工程学院

摘 要：为提高黄铜制品的耐蚀性能,在黄铜表面制备硅烷膜,运用正交试验法优选了形成γ-巯丙基三甲氧基硅烷（γ-MPS）膜的工艺条件,通过对比各水解条件下成膜试样在3.5%NaCl溶液中的塔菲曲线获得了最佳浸涂工艺条件,运用阳极极化曲线、交流阻抗法和扫描电镜表征了制备的硅烷膜对黄铜基底的防护性能。结果表明:成膜最佳工艺条件为γ-MPS∶去离子水∶乙醇（体积比）=4.0∶46.5∶2.5,水解溶液p H=6.0、水解时间4.5 h、水解温度40℃、浸涂时间80 min、浸涂温度40℃、固化时间30 min、固化温度80℃;该条件下制备的黄铜表面硅烷膜在3.5%NaCl溶液中具有良好的耐蚀性能。

关键词：巯丙基三甲氧基硅烷;黄铜;正交试验;水解工艺;耐蚀性能;