碳化硼陶瓷磨损特性的点接触显微镜研究

来源期刊：粉末冶金材料科学与工程2002年第3期

论文作者：王零森 吴芳

文章页码：165 - 169

关键词：碳化硼;纳米摩擦;磨损深度;预氧化;

摘    要：用点接触显微镜在纳米尺度上研究了碳化硼材料的磨损特性,考察了未经预氯化和经1073K预氧化处理1 h的2种热压碳化硼试样磨损深度随载荷、磨损次数、扫描速度等的变化情况。研究结果表明,未经预氧化的碳化硼试样,磨损深度很小,而经过预氧化处理的碳化硼试样,磨损深度远远大于未经氧化的试样。两者的磨损深度均随载荷的增加而显著增加。未经氧化的碳化硼试样由于其纵向上的结构是均匀的,磨损深度随磨损次数的增加呈线性增加;经氧化处理的碳化硼试样的磨损深度随磨损次数的增加呈现2段线性关系,可推断其表层的H₃BO₃膜厚度约为120～140nm。2种试样的磨损深度与扫描速度均无明显关系。