多弧离子镀(Ti,Cr)N膜层工艺及性能
来源期刊：机械工程材料2002年第3期
论文作者：潘国顺 曲敬信 刘清平
关键词：多弧离子镀; (Ti,Cr)N多元膜层; 工艺与性能;
摘 要：用多弧离子镀膜机,以W6Mo5Cr4V2高速钢为基体材料,镀覆(Ti,Cr)N多元膜,研究了多弧离子镀工艺对膜层性能的影响,确定了最佳镀膜工艺参数,探讨了多元膜层的强化机理.结果表明:膜层硬度及膜基结合力随偏压的增大而增大,膜层硬度随氮分压的升高而增大,孔隙率随氮分压的升高而增大.(Ti,Cr)N多元膜层强化机理主要是:晶粒细化、固溶强化、多元素优化.
潘国顺1，曲敬信2，刘清平3
(1.清华大学摩擦学国家重点实验室,北京,100084;
2.中国矿业大学机电工程系,北京,100083;
3.中国农业大学车辆工程学院,北京,100083)
摘要:用多弧离子镀膜机,以W6Mo5Cr4V2高速钢为基体材料,镀覆(Ti,Cr)N多元膜,研究了多弧离子镀工艺对膜层性能的影响,确定了最佳镀膜工艺参数,探讨了多元膜层的强化机理.结果表明:膜层硬度及膜基结合力随偏压的增大而增大,膜层硬度随氮分压的升高而增大,孔隙率随氮分压的升高而增大.(Ti,Cr)N多元膜层强化机理主要是:晶粒细化、固溶强化、多元素优化.
关键词:多弧离子镀; (Ti,Cr)N多元膜层; 工艺与性能;
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