工艺参数对RF磁控溅射沉积铝掺杂氧化锌薄膜特性的影响
来源期刊：材料科学与工程学报2003年第2期
论文作者：黄佳木 张兴元 董建华
关键词：ZnO:Al薄膜; 射频磁控溅射; 结构; 光电特性;
摘 要：ZnO:Al(ZAO)是一种N型半导体薄膜材料,具有优良的光电特性,如低的电阻率和高的可见光透过率.本文利用射频磁控溅射技术在无机玻璃衬底上制备了ZAO透明导电薄膜,研究了工艺参数对其结构和光电特性的影响.结果表明原位制备的薄膜经热处理后具有c轴择优取向的六角纤锌矿结构,晶粒垂直于衬底方向柱状生长.薄膜的最小电阻率和可见光透过率分别为8.7×10-4Ωcm和85%以上.
黄佳木1，张兴元1，董建华1
(1.重庆大学材料学院,重庆,400045)
摘要:ZnO:Al(ZAO)是一种N型半导体薄膜材料,具有优良的光电特性,如低的电阻率和高的可见光透过率.本文利用射频磁控溅射技术在无机玻璃衬底上制备了ZAO透明导电薄膜,研究了工艺参数对其结构和光电特性的影响.结果表明原位制备的薄膜经热处理后具有c轴择优取向的六角纤锌矿结构,晶粒垂直于衬底方向柱状生长.薄膜的最小电阻率和可见光透过率分别为8.7×10-4Ωcm和85%以上.
关键词:ZnO:Al薄膜; 射频磁控溅射; 结构; 光电特性;
【全文内容正在添加中】
