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脉冲激光沉积磷掺杂多晶硅薄膜的压阻性能

来源期刊:材料导报2017年第S2期

论文作者:王思源 王宙 付传起 骆旭梁 张英利

文章页码:150 - 308

关键词:脉冲激光沉积;多晶硅薄膜;磷掺杂;应变系数;

摘    要:采用脉冲激光沉积法(PLD)制备磷掺杂多晶硅薄膜,研究磷掺杂分数对多晶硅薄膜压阻性能的影响。结果表明,随着磷掺杂分数增大,多晶硅薄膜的应变系数先增大后减小。在磷掺杂分数为0.3%(质量分数)时,电阻横向应变系数的绝对值达到最大,为24.3,电阻纵向应变系数的绝对值达到最大,为12.6。横向电阻应变的非线性在1%2.5%之间,电阻的温度系数为0.05%/℃,应变系数的温度系数为-0.06%/℃。

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脉冲激光沉积磷掺杂多晶硅薄膜的压阻性能

王思源1,王宙1,付传起2,骆旭梁3,张英利2

1. 大连大学表面工程中心2. 大连大学机械工程学院3. 宁波市镇海甬安无损检测工程有限公司

摘 要:采用脉冲激光沉积法(PLD)制备磷掺杂多晶硅薄膜,研究磷掺杂分数对多晶硅薄膜压阻性能的影响。结果表明,随着磷掺杂分数增大,多晶硅薄膜的应变系数先增大后减小。在磷掺杂分数为0.3%(质量分数)时,电阻横向应变系数的绝对值达到最大,为24.3,电阻纵向应变系数的绝对值达到最大,为12.6。横向电阻应变的非线性在1%2.5%之间,电阻的温度系数为0.05%/℃,应变系数的温度系数为-0.06%/℃。

关键词:脉冲激光沉积;多晶硅薄膜;磷掺杂;应变系数;

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