简介概要

TiO2薄膜上电沉积四氨基酞菁钴及其表征

来源期刊：材料科学与工程学报2008年第2期

论文作者：秦艳涛吴敏杨朝晖张俊颉孙岳明

关键词：四氨基酞菁钴; 电沉积; 循环伏安;

摘要：为了寻找酞菁在TiO2上成膜新方式,我们用阳极氧化法在TiO2薄膜上成功制备了四氨基酞菁钴薄膜,对酞菁薄膜进行了SEM,XRD,UV-vis表征,并在成膜前后对四氨基酞菁钴分别进行了电化学性能表征.

详情信息展示

秦艳涛¹，吴敏¹，杨朝晖²，张俊颉¹，孙岳明¹

(1.东南大学化学化工学院,江苏,南京,210096;
2.新安江职业技术学院,浙江,杭州,311600)

摘要:为了寻找酞菁在TiO2上成膜新方式,我们用阳极氧化法在TiO2薄膜上成功制备了四氨基酞菁钴薄膜,对酞菁薄膜进行了SEM,XRD,UV-vis表征,并在成膜前后对四氨基酞菁钴分别进行了电化学性能表征.

关键词:四氨基酞菁钴; 电沉积; 循环伏安;

【全文内容正在添加中】