TiO2薄膜上电沉积四氨基酞菁钴及其表征
来源期刊:材料科学与工程学报2008年第2期
论文作者:秦艳涛 吴敏 杨朝晖 张俊颉 孙岳明
关键词:四氨基酞菁钴; 电沉积; 循环伏安;
摘 要:为了寻找酞菁在TiO2上成膜新方式,我们用阳极氧化法在TiO2薄膜上成功制备了四氨基酞菁钴薄膜,对酞菁薄膜进行了SEM,XRD,UV-vis表征,并在成膜前后对四氨基酞菁钴分别进行了电化学性能表征.
秦艳涛1,吴敏1,杨朝晖2,张俊颉1,孙岳明1
(1.东南大学化学化工学院,江苏,南京,210096;
2.新安江职业技术学院,浙江,杭州,311600)
摘要:为了寻找酞菁在TiO2上成膜新方式,我们用阳极氧化法在TiO2薄膜上成功制备了四氨基酞菁钴薄膜,对酞菁薄膜进行了SEM,XRD,UV-vis表征,并在成膜前后对四氨基酞菁钴分别进行了电化学性能表征.
关键词:四氨基酞菁钴; 电沉积; 循环伏安;
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